Superficie Superhidrofobica Y Metodo Para Formar La Misma.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La presente invencion es un metodo para aplicar materiales Lotus Effect como un recubrimiento protector (superhidrofobicidad) para diversas aplicaciones de sistema, asi como tambien, el metodo para fabricar/preparar los recubrimientos Lotus Effect.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2008/012352

Fecha de Presentación:

26-09-2008

Clasificación:

B23B33/00 (2006-01)

Solicitante(s):

GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION.*; 505 Tenth Street N.W., 30332-0415, Atlanta, Georgia, E.U.A.

Inventor(es):

YONGHAO XIU, LINGBO ZHU, DENNIS, W. HESS, FEI XIAO, CHING, PING WONG, ROBERT N. HAMPTON, FRANKLIN COOK LAMBER, 461 Calhoun Street, N.W., 30318, Atlanta, Georgia, E.U.A.

Información Adicional

La superficie superhidrofóbica es un tipo de superficie que repele el agua de manera extraordinaria. Esto se debe a que está recubierta con una capa de nanomateriales que impide que el líquido se adhiera a ella. Este tipo de tecnología tiene una amplia variedad de aplicaciones, desde la industria textil hasta la construcción de edificios. Existen diferentes métodos para formar superficies superhidrofóbicas, pero uno de los más comunes es la deposición de capas delgadas de materiales hidrofóbicos sobre una superficie previamente tratada. Los materiales más utilizados para este fin son los polímeros fluorados, que tienen una alta afinidad por los electrones y, por lo tanto, son muy resistentes a la humedad. La deposición de capas delgadas de polímeros fluorados se puede realizar de diferentes maneras, pero una de las más populares es la técnica de deposición de vapor químico (CVD, por sus siglas en inglés). En este método, un gas portador que contiene monómeros de polímeros fluorados se hace pasar a través de una cámara de reacción, donde se somete a un proceso de activación térmica o de plasma. Esto provoca que los monómeros se adhieran a la superficie que se desea recubrir, formando una capa uniforme y muy resistente. Otro método para formar superficies superhidrofóbicas es la técnica de litografía de haz de electrones (EBL, por sus siglas en inglés). En este método, se utiliza un haz de electrones para grabar patrones en una superficie previamente tratada, formando microestructuras que le dan a la superficie propiedades superhidrofóbicas. En conclusión, la superficie superhidrofóbica es un tipo de tecnología con múltiples aplicaciones en diferentes campos, como la industria textil, la construcción de edificios y la ingeniería de materiales. Existen diferentes métodos para formar superficies superhidrofóbicas, pero la deposición de capas delgadas de polímeros fluorados mediante la técnica de CVD y la litografía de haz de electrones son dos de los más utilizados.

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