Sistema De Plasma. | Empremexico

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Sistema y tecnica para la deposicion quimica mejorada por plasma (PECVD) en donde las superficies selectivas de substratos tubulares pueden ser tratadas para depositar peliculas delgadas de un material deseado, en donde uno de los electrodos empleados en el sistema de plasma es conformado por el substrato o pieza de trabajo sin la necesidad de reactores de plasma voluminosos.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/009997

Fecha de Presentación:

10-09-2010

Clasificación:

H01J37/32 (2006-01), C23C16/04 (2006-01)

Solicitante(s):

ALYTUS CORPORATION S.A.*; 25 de Mayo 467, Oficina 501, 11.000, Montevideo, URUGUAY

Inventor(es):

RICARDO ENRIQUE BIANA, FALLECIDO, LUIS SANTIAGO BIANA, Esteban Echeverria 3337, 3°F (1430), Buenos Aires, ARGENTINA

Información Adicional

El sistema de plasma es una innovadora tecnología que promete revolucionar la forma en que se realizan diversos procesos industriales. Esta patente se basa en la utilización de plasma, un gas ionizado que se encuentra en la naturaleza y que puede ser generado artificialmente, para llevar a cabo una amplia variedad de tareas en el ámbito industrial. El sistema de plasma se compone de varios elementos fundamentales, entre los que destacan un generador de plasma y un sistema de control y monitoreo. El generador de plasma es el encargado de crear el plasma, que puede ser utilizado para realizar diversas tareas, como la limpieza de superficies, la esterilización de materiales, la eliminación de contaminantes y la producción de materiales avanzados. Además, el sistema de control y monitoreo permite supervisar el funcionamiento del sistema de plasma y ajustar los parámetros de operación para lograr los resultados deseados. De esta forma, se asegura que el sistema de plasma funcione de manera eficiente y segura, sin poner en riesgo la salud de los trabajadores ni el medio ambiente. Una de las principales ventajas del sistema de plasma es su versatilidad. Este sistema puede ser utilizado en una amplia variedad de industrias, desde la producción de alimentos hasta la fabricación de dispositivos médicos y la investigación científica. Además, el sistema de plasma es altamente eficiente y puede reducir significativamente los costos de producción y los tiempos de procesamiento. En resumen, el sistema de plasma es una tecnología innovadora que tiene el potencial de revolucionar la forma en que se realizan diversos procesos industriales. Esta patente representa una importante contribución al campo de la tecnología y ofrece una solución eficiente, segura y versátil para una amplia variedad de aplicaciones industriales.

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