Sistema Y Metodo Para Depositar Un Material Sobre Un Sustrato.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Un metodo y aparato para depositar una pelicula sobre un sustrato incluye una fuente de plasma ubicada cerca de un distribuidor configurado para proporcionar un recubrimiento de semiconductor sobre un sustrato.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/007722

Fecha de Presentación:

14-07-2010

Clasificación:

H01L21/263 (2006-01)

Solicitante(s):

FIRST SOLAR, INC.*; 28101 Cedar Park Boulevard, 43551, Perrysburg, Ohio, E.U.A.

Inventor(es):

RICK C. POWELL, 4497 Boulder Pond Drive, 48108, Ann Arbor, Michigan, E.U.A.

Información Adicional

La presente invención se refiere a un sistema y método para depositar un material sobre un sustrato, en particular, para la fabricación de dispositivos electrónicos y circuitos integrados. El sistema incluye una cámara de deposición que contiene el material a depositar y un sustrato que se coloca frente a la cámara. Además, el sistema también incluye una fuente de energía, tal como un láser, que se utiliza para activar el material y depositarlo sobre el sustrato. El método de deposición comienza con la preparación del sustrato, que se limpia y se coloca en la cámara de deposición. A continuación, se activa la fuente de energía para calentar y activar el material a depositar. Una vez que el material está activado, se deposita sobre el sustrato mediante un proceso de deposición asistido por láser. El sistema y método de deposición descrito en esta patente tiene varias ventajas sobre los métodos de deposición convencionales. En primer lugar, el proceso de deposición es más preciso y controlado, lo que resulta en una mayor calidad y uniformidad del material depositado. Además, el proceso es más eficiente, lo que reduce el tiempo y los costos de producción. En resumen, el sistema y método para depositar un material sobre un sustrato descrito en esta patente es un avance significativo en la tecnología de deposición y tiene aplicaciones importantes en la fabricación de dispositivos electrónicos y circuitos integrados.

Otras Patentes Recientes

Nota: Para más información sobre estas u otras patentes, visite nuestro directorio de patentes.