Produccion De Capas De Estado Solido Independientes Mediante Procesamiento Termico De Sustratos Con Un Polimero.
La producción de capas de estado sólido independientes mediante procesamiento térmico de sustratos con un polímero es una técnica muy utilizada en la industria de la electrónica y la informática. Esta técnica se basa en la deposición de una capa delgada de un material semiconductor sobre un sustrato, utilizando un polímero como agente de unión.
El proceso de producción de estas capas comienza con la limpieza del sustrato, que debe estar libre de impurezas y contaminantes que puedan afectar la calidad de la capa final. A continuación, se aplica una capa delgada de polímero sobre el sustrato, que actúa como agente de unión entre el sustrato y la capa semiconductor.
Una vez aplicado el polímero, se somete el sustrato a un proceso de calentamiento a alta temperatura, lo que provoca la descomposición del polímero y la formación de una capa de óxido en la superficie del sustrato. Esta capa de óxido actúa como una barrera entre el sustrato y la capa semiconductor, evitando la difusión de impurezas y contaminantes.
Finalmente, se deposita una capa delgada de material semiconductor sobre la capa de óxido, utilizando técnicas como la deposición de vapor químico o la pulverización catódica. Esta capa semiconductor puede ser de diferentes materiales, como silicio, germanio o arseniuro de galio, dependiendo de la aplicación final del sustrato.
La producción de capas de estado sólido independientes mediante procesamiento térmico de sustratos con un polímero tiene numerosas aplicaciones en la industria de la electrónica y la informática. Por ejemplo, se utiliza en la fabricación de células solares de película delgada, transistores de efecto de campo, diodos emisores de luz y sensores de gas.
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En resumen, la producción de capas de estado sólido independientes mediante procesamiento térmico de sustratos con un polímero es una técnica muy utilizada en la industria de la electrónica y la informática, que permite la fabricación de dispositivos de alta calidad y rendimiento. Esta técnica requiere un alto grado de precisión y control, pero ofrece numerosas ventajas en términos de flexibilidad, eficiencia y coste.
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Descripcion: En un metodo para producir una capa autoestable en estado solido, se proporciona un material en estado solido que tiene por lo menos una superficie disponible para la formacion de una capa en la misma y se forma una capa de polimero en la superficie disponible; el material en estado solido y la capa de polimero se exponen entonces a un cambio en la temperatura local, desde una primera temperatura que es aproximadamente la temperatura ambiente hasta una segunda temperatura, para hacer que el material en estado solido se fracture a lo largo de un plano a una profundidad en el material, para producir por lo menos una capa autoestable en estado solido a partir del material en estado solido.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Produccion De Capas De Estado Solido Independientes Mediante Procesamiento Termico De Sustratos Con Un Polimero. en México
Solicitud: MX/a/2010/004896
Fecha de Presentacion: 2010-04-30
Solicitante(s): PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE.*; 17 Quincy Street, 02138, Cambridge, Massachusetts, E.U.A.
Inventor(es): LICHTENSTEIGER, LUKAS, PFEFFER, CHRISTIAN, 25 Antrim Street, 02139, Cambridge, Massachusetts, E.U.A.
Clasificacion: H01L21/762 (2006-01) referente a Produccion De Capas De Estado Solido Independientes Mediante Procesamiento Termico De Sustratos Con Un Polimero.