Proceso Para Recuperacion De Gecl4 Y/o Sicl4 A Partir De Fibras Opticas O Residuos Vitreos Y Proceso Para Producir Sicl4 A Partir De Materiales Ricos En Sio2.
En la industria de la electrónica, la recuperación de materiales es una práctica común y necesaria para minimizar el impacto ambiental y maximizar la eficiencia en la producción. En este sentido, el proceso para recuperar GECl4 y/o SiCl4 a partir de fibras ópticas o residuos vítreos y el proceso para producir SiCl4 a partir de materiales ricos en SiO2 son dos alternativas interesantes y eficientes.
El GECl4 y el SiCl4 son compuestos químicos utilizados en la producción de semiconductores y otros componentes electrónicos. Estos compuestos son altamente tóxicos y peligrosos para el medio ambiente, por lo que su recuperación es esencial para evitar su liberación en la naturaleza.
El proceso para recuperar GECl4 y/o SiCl4 a partir de fibras ópticas o residuos vítreos consiste en la trituración de estos materiales para obtener un polvo fino que se somete a un tratamiento químico con ácido clorhídrico. Este proceso permite la recuperación del cloruro de germanio y/o cloruro de silicio, que se utilizan posteriormente en la producción de componentes electrónicos.
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Por otro lado, el proceso para producir SiCl4 a partir de materiales ricos en SiO2 se basa en la oxidación del dióxido de silicio (SiO2) con cloro gaseoso (Cl2) a altas temperaturas. Este proceso permite la obtención de SiCl4, que se utiliza en la producción de silicio policristalino, un material comúnmente utilizado en paneles solares y otros componentes electrónicos.
En ambos procesos, es importante tener en cuenta que se deben seguir medidas de seguridad y protección ambiental para evitar la liberación de compuestos tóxicos y peligrosos en la naturaleza. Además, estos procesos deben ser realizados por personal capacitado y con experiencia en la manipulación de sustancias químicas.
En conclusión, el proceso para recuperar GECl4 y/o SiCl4 a partir de fibras ópticas o residuos vítreos y el proceso para producir SiCl4 a partir de materiales ricos en SiO2 son dos alternativas eficientes y necesarias en la industria de la electrónica para minimizar el impacto ambiental y maximizar la eficiencia en la producción. Es importante seguir medidas de seguridad y protección ambiental para evitar la liberación de compuestos tóxicos y peligrosos en la naturaleza.
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Descripcion: Se proporciona un metodo para producir GeCl4 con o sin SiCl4 a partir de fibras opticas, el metodo comprende los pasos de: hacer reaccionar fibras opticas pulverizadas entre las que se incluyen oxidos de germanio y opcionalmente silicio con un reactivo que incluye un agente reductor carbonaceo solido, cloro y un compuesto de boro para obtener un producto gaseoso incluyendo GeCl4 gaseoso, SiCl4 gaseoso, y BCl3 gaseoso de acuerdo con las reacciones: 2BCl3(g) + 1.5GeO2 = 1.5GeCl4(g) + B2O3; 2BCl3(g) + 1.5 SiO2 = 1.5 SiCl4(g) + B2O B2O3 + 1.5C + 3Cl2 = 2BCl3(g) + 1.5CO2 y luego condensar el GeCl4, BCl3 y opcionalmente SiCl4 gaseosos en GeCl4, BCl3 y opcionalmente SiCl4 liquidos. La invencion proporciona un metodo adema para producir SiCl4 (y opcionalmente GeCl4) a partir de los residuos vidriosos obtenidos de la produccion de fibras opticas y cables opticos residuales. El metodo incluye los pasos de: hacer reaccionar los residuos vitreo pulverizados con un reactivo que incluye un agente reductor carbonaceo solido, una sal, un compuesto de boro para obtener un producto gaseoso que incluye SiCl4, BCl3, y opcionalmente GeCl4 y luego condensar el SiCl4, BCl3 (con o sin GeCl4) gaseosos en SiCl4, BCl3 y GeCl4 liquidos. Tambien se proporciona un metodo para producir SiCl4 a partir de un material que contiene SiO2.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Proceso Para Recuperacion De Gecl4 Y/o Sicl4 A Partir De Fibras Opticas O Residuos Vitreos Y Proceso Para Producir Sicl4 A Partir De Materiales Ricos En Sio2. en México
Solicitud: MX/a/2010/006254
Fecha de Presentacion: 2010-06-07
Solicitante(s): INSTITUT NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE; 490, Rue De La Couronne, G1K 9A9, Quebec, Quebec, CANADA
Inventor(es): MARIO BERGERON, ALAIN LANGLAIS, 1253, Rue De Fenouillet, G1Y 2Y6, Quebec, CANADA
Clasificacion: C01G17/04 (2006-01), C01B33/08 (2006-01) referente a Proceso Para Recuperacion De Gecl4 Y/o Sicl4 A Partir De Fibras Opticas O Residuos Vitreos Y Proceso Para Producir Sicl4 A Partir De Materiales Ricos En Sio2.