Un Proceso Y Un Dispositivo Para Limpiar Substratos.
En el mundo de la tecnología, la innovación es una constante y siempre se están desarrollando nuevos procesos y dispositivos para mejorar la eficiencia de diversas tareas. Uno de los campos en los que se ha avanzado significativamente es en la limpieza de substratos, que son superficies sobre las que se depositan materiales para su posterior procesamiento.
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Recientemente se ha patentado un proceso y un dispositivo para limpiar substratos de manera más efectiva y eficiente. Este proceso y dispositivo se basan en la utilización de un sistema de limpieza por chorro de agua a alta presión, que permite eliminar los residuos depositados en los substratos de manera rápida y eficaz.
El dispositivo consta de un sistema de bombeo de agua a alta presión, un tanque de almacenamiento de agua, una unidad de control y un sistema de boquillas de chorro de agua. El proceso de limpieza comienza cuando se carga el substrato en la unidad de limpieza y se activa el sistema de bombeo de agua a alta presión. Luego, se dirige el chorro de agua a las áreas del substrato que se desean limpiar, eliminando los residuos depositados en la superficie.
Este dispositivo y proceso de limpieza son especialmente útiles en la industria de la electrónica, donde se utilizan substratos para la fabricación de componentes electrónicos. La limpieza de estos substratos es esencial para garantizar su calidad y fiabilidad, y este nuevo proceso y dispositivo permiten una limpieza más rápida y eficiente, lo que se traduce en una mayor productividad y una reducción de costos.
En resumen, la patente de este proceso y dispositivo para limpiar substratos representa un avance significativo en el campo de la limpieza industrial. Su utilización permite una limpieza más rápida y efectiva de los substratos, lo que se traduce en una mayor eficiencia y una reducción de costos. Sin duda, esta patente será de gran interés para la industria de la electrónica y otras industrias que utilizan substratos en sus procesos de fabricación.
Algunas patentes que relacionadas son: * REACTIVO DE MEDICION DE PLAQUETA, KIT DE REACTIVO DE MEDICION DE PLAQUETA, Y METODO DE MEDICION DE PLAQUETA.
* CONEXION CON ANILLO DE SEGURIDAD.
* COMPUESTOS OLIGOPEPTIDICOS Y USOS DE LOS MISMOS.
* COMPOSICION POLIMERICA ADHESIVA.
* UN METODO PARA TRATAR UNA PATOLOGIA OCULAR AL APLICAR ULTRASONIDO FOCALIZADO DE ALTA INTENSIDAD Y UN DISPOSITIVO DEL MISMO.
* UN METODO PARA OBTENER INSULINAS HETEROLOGAS PURIFICADAS EXPRESADAS EN LEVADURA.
* MAQUINA Y PROCEDIMIENTO PARA EL MECANIZADO DE EXTREMOS DE CIGÜEÑALES.
Descripcion: En particular, un substrato poros (FS) como un genero. Proceso para limpiar un substrato, que comprende un paso de someter el substrato a una atomizacion de aire-agua (SPR), generada usando un medio de atomizacion (N) comprendiendo un paso de aire (OPA) y un paso de agua (OPW), en donde el aire es mayor que 90% en volumen de la atomizacion, la velocidad de aire es mayor que 80 m/s y en donde dicho paso de aire no rodea coaxialmente dicho paso de agua. El dispositivo para limpiar genero ensuciado (FS) comprendiendo un recipiente de agua de alimentacion (CW) y un compresor de aire (AC) en comunicacion de fluido con una boquilla de atomizacion (N) que comprende un paso de aire y un paso de agua, siendo capaz dicho dispositivo de generar una presion de aire en el rango de 1x105 hasta 3x105 Pa (1 hasta 3 bar) (absoluto) y una velocidad de aire mayor que 80 m/s a la salida de dicha boquilla; y el aire es mayor que 90% en volumen de dicha atomizacion, y en donde dicho paso de aire no rodea coaxialmente dicho paso de agua. Una boquilla de atomizacion de mezcla externa es especialmente preferida en el dispositivo.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Un Proceso Y Un Dispositivo Para Limpiar Substratos. en México
Solicitud: MX/a/2010/008958
Fecha de Presentacion: 2010-08-13
Solicitante(s): UNILEVER N. V.; Weena 455, NL-3013, AL Rotterdam, PAISES BAJOS
Inventor(es): SURESH S. JAYARAMAN, KIRTAN S. KAMKAR, LALIT KUMAR, AMIT SAH, RUDRA S. SHRESTH, Hindustan Unilever Ltd., Research Centre 64 Main Road, 560 066, Whitefield, P.O., Bangalore, INDIA
Clasificacion: A47L11/34 (2006-01), A47L13/26 (2006-01), B05B7/06 (2006-01), B05B7/08 (2006-01), B08B3/02 (2006-01) referente a Un Proceso Y Un Dispositivo Para Limpiar Substratos.