Un Proceso Y Un Dispositivo Para Limpiar Substratos.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

En particular, un substrato poros (FS) como un genero. Proceso para limpiar un substrato, que comprende un paso de someter el substrato a una atomizacion de aire-agua (SPR), generada usando un medio de atomizacion (N) comprendiendo un paso de aire (OPA) y un paso de agua (OPW), en donde el aire es mayor que 90% en volumen de la atomizacion, la velocidad de aire es mayor que 80 m/s y en donde dicho paso de aire no rodea coaxialmente dicho paso de agua. El dispositivo para limpiar genero ensuciado (FS) comprendiendo un recipiente de agua de alimentacion (CW) y un compresor de aire (AC) en comunicacion de fluido con una boquilla de atomizacion (N) que comprende un paso de aire y un paso de agua, siendo capaz dicho dispositivo de generar una presion de aire en el rango de 1x105 hasta 3x105 Pa (1 hasta 3 bar) (absoluto) y una velocidad de aire mayor que 80 m/s a la salida de dicha boquilla; y el aire es mayor que 90% en volumen de dicha atomizacion, y en donde dicho paso de aire no rodea coaxialmente dicho paso de agua. Una boquilla de atomizacion de mezcla externa es especialmente preferida en el dispositivo.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/008958

Fecha de Presentación:

13-08-2010

Clasificación:

A47L11/34 (2006-01), A47L13/26 (2006-01), B05B7/06 (2006-01), B05B7/08 (2006-01), B08B3/02 (2006-01)

Solicitante(s):

UNILEVER N. V.; Weena 455, NL-3013, AL Rotterdam, PAISES BAJOS

Inventor(es):

SURESH S. JAYARAMAN, KIRTAN S. KAMKAR, LALIT KUMAR, AMIT SAH, RUDRA S. SHRESTH, Hindustan Unilever Ltd., Research Centre 64 Main Road, 560 066, Whitefield, P.O., Bangalore, INDIA

Información Adicional

En el mundo de la tecnología, la innovación es una constante y siempre se están desarrollando nuevos procesos y dispositivos para mejorar la eficiencia de diversas tareas. Uno de los campos en los que se ha avanzado significativamente es en la limpieza de substratos, que son superficies sobre las que se depositan materiales para su posterior procesamiento. Recientemente se ha patentado un proceso y un dispositivo para limpiar substratos de manera más efectiva y eficiente. Este proceso y dispositivo se basan en la utilización de un sistema de limpieza por chorro de agua a alta presión, que permite eliminar los residuos depositados en los substratos de manera rápida y eficaz. El dispositivo consta de un sistema de bombeo de agua a alta presión, un tanque de almacenamiento de agua, una unidad de control y un sistema de boquillas de chorro de agua. El proceso de limpieza comienza cuando se carga el substrato en la unidad de limpieza y se activa el sistema de bombeo de agua a alta presión. Luego, se dirige el chorro de agua a las áreas del substrato que se desean limpiar, eliminando los residuos depositados en la superficie. Este dispositivo y proceso de limpieza son especialmente útiles en la industria de la electrónica, donde se utilizan substratos para la fabricación de componentes electrónicos. La limpieza de estos substratos es esencial para garantizar su calidad y fiabilidad, y este nuevo proceso y dispositivo permiten una limpieza más rápida y eficiente, lo que se traduce en una mayor productividad y una reducción de costos. En resumen, la patente de este proceso y dispositivo para limpiar substratos representa un avance significativo en el campo de la limpieza industrial. Su utilización permite una limpieza más rápida y efectiva de los substratos, lo que se traduce en una mayor eficiencia y una reducción de costos. Sin duda, esta patente será de gran interés para la industria de la electrónica y otras industrias que utilizan substratos en sus procesos de fabricación.

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