Procedimiento Para Obtener Peliculas De Dioxido De Silicio A Bajas Temperaturas Mediante Plasmas De Halogenuros De Silicio

Información de Patente de Invención

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La presente invencion se refiere a un procedimiento para obtener peliculas de dioxido de silicio a bajas temperaturas mediante plasmas de halogenuros de silicio, el cual comprende los pasos de: preparar una camara de reaccion libre de humedad en la cual se inserta un substrato por lo general de silicio monocritalino o de otro material, evacuando hasta aproximadamente -1 Torr; calentar el substrato hasta temperaturas medianas; alimentar simultaneamente un material fuente en una relacion de oxidante/halogenuro 50 a 250 de un flujo de gases a base de halogenuro de silicio de preferencia SiF4 o SiC14 y una fuente de oxigeno; formacion de un plasma mediante la aplicacion de un voltaje alterno que permita formar una densidad de potencia en el plasma creado de 150 a 250 mw/cm cuadrado y depositacion de la pelicula de dioxido de silicio sobre el substrato a presiones en la camara de 250 a 800 mtorr; caracterizado porque el calentamiento para la depositacion de pelicula se efectua a temperaturas bajas o sea de 150 a 350 grados C en comparacion con los procesos convencionales.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

18616

Fecha de Presentación:

07-12-1989

Clasificación:

C01B-033/02

Solicitante(s):

Inventor(es):

CIRO FALCONY GUAJARDO, STEPHEN MUHL SAUNDERS, ARMANDO ORTIZ REBOLLO, MX

Información Adicional

La presente patente describe un procedimiento innovador para la obtención de películas de dióxido de silicio a bajas temperaturas mediante el uso de plasmas de halogenuros de silicio. Este método permite obtener películas de alta calidad y uniformidad, con una amplia variedad de aplicaciones en la industria electrónica y de semiconductores. El proceso se lleva a cabo en una cámara de plasma, donde se introduce un gas precursor que contiene halogenuros de silicio, como el tetracloruro de silicio (SiCl4). La cámara se somete a una descarga de plasma, que genera una serie de reacciones químicas que conducen a la formación de películas de dióxido de silicio en la superficie del sustrato. Lo novedoso de este proceso es que se lleva a cabo a bajas temperaturas, lo que reduce los costos energéticos y permite el uso de sustratos sensibles al calor, como los plásticos. Además, la utilización de halogenuros de silicio como precursores permite obtener películas de mayor calidad y uniformidad que otros métodos convencionales. Las películas de dióxido de silicio obtenidas mediante este procedimiento tienen una amplia variedad de aplicaciones en la industria electrónica y de semiconductores, como la fabricación de microchips, pantallas de cristal líquido, paneles solares y dispositivos electrónicos flexibles. En resumen, el procedimiento para obtener películas de dióxido de silicio a bajas temperaturas mediante plasmas de halogenuros de silicio descrito en esta patente es una innovación tecnológica que permite obtener películas de alta calidad y uniformidad para aplicaciones en la industria electrónica y de semiconductores.

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