Procedimiento Y Dispositivo De Tratamiento De Pastillas De Silicio.
El silicio es uno de los materiales más utilizados en la fabricación de diferentes dispositivos electrónicos. Se encuentra en forma de pastillas, las cuales deben ser tratadas de manera adecuada para asegurar su eficacia y calidad. En este artículo, hablaremos sobre el procedimiento y dispositivo de tratamiento de pastillas de silicio.
El proceso de tratamiento de pastillas de silicio es fundamental para la fabricación de componentes electrónicos, como los microprocesadores. El objetivo principal es obtener pastillas de silicio de alta pureza, que permitan la producción de componentes de alta calidad y rendimiento.
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El procedimiento de tratamiento de pastillas de silicio incluye varias etapas, entre las que se encuentran la limpieza, el grabado, la oxidación y la difusión. La limpieza es la primera etapa y consiste en eliminar cualquier impureza que pueda afectar la calidad de la pastilla. El grabado se utiliza para eliminar la capa superficial de la pastilla y mejorar su calidad. La oxidación se utiliza para crear una capa de óxido en la superficie de la pastilla, lo que permite la difusión de impurezas en la pastilla.
Para llevar a cabo el proceso de tratamiento de pastillas de silicio, se utiliza un dispositivo denominado horno de difusión. Este dispositivo consiste en un horno en el que se colocan las pastillas de silicio y se someten a diferentes temperaturas y gases para llevar a cabo el proceso de difusión. El horno de difusión es un dispositivo muy preciso y controlado, que permite obtener pastillas de silicio de alta calidad y pureza.
En conclusión, el tratamiento de pastillas de silicio es un proceso fundamental para la fabricación de componentes electrónicos. El procedimiento de tratamiento incluye varias etapas, entre las que se encuentran la limpieza, el grabado, la oxidación y la difusión. Para llevar a cabo este proceso, se utiliza un dispositivo denominado horno de difusión, que permite obtener pastillas de silicio de alta calidad y pureza. Es importante destacar que el tratamiento de pastillas de silicio es un proceso muy preciso y controlado, que requiere de personal altamente capacitado y de equipos especializados.
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Descripcion: La invencion se refiere a un metodo y dispositivo para tratar pastillas de silico. En una primera etapa, se transportan pastillas de silicio (22) en posicion horizontal a lo largo de un trayecto de transporte horizontal (12, 32) para tratarlas en un primer paso del procedimiento y se las rocia desde arriba con una solucion corrosiva (21) de texturacion por medio de boquillas (20) o similares. Desde debajo de las pastillas de silicio (22) se efectua aqui solamente una pequeña aplicacion de solucion corrosiva (21). En un segundo paso del procedimiento se humectan las pastillas de silicio (22) desde abajo con una solucion corrosiva (35) para la corrosion pulidora, en concreto exclusivamente desde abajo, con la misma orientacion de dichas pastillas que en el primer paso del procedimiento.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Procedimiento Y Dispositivo De Tratamiento De Pastillas De Silicio. en México
Solicitud: MX/a/2010/006778
Fecha de Presentacion: 2010-06-17
Solicitante(s): GEBR. SCHMID GMBH & CO.; Robert-Bosch-Strasse 32-34, 72250, Freudenstadt, ALEMANIA
Inventor(es): HEINZ KAPPLER, Bergwiese 11, 72280, Dornstetten-Aach, ALEMANIA
Clasificacion: H01L21/00 (2006-01), B05C1/02 (2006-01), B05C1/08 (2006-01) referente a Procedimiento Y Dispositivo De Tratamiento De Pastillas De Silicio.