Procedimiento Y Dispositivo De Tratamiento De Pastillas De Silicio.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La invencion se refiere a un metodo y dispositivo para tratar pastillas de silico. En una primera etapa, se transportan pastillas de silicio (22) en posicion horizontal a lo largo de un trayecto de transporte horizontal (12, 32) para tratarlas en un primer paso del procedimiento y se las rocia desde arriba con una solucion corrosiva (21) de texturacion por medio de boquillas (20) o similares. Desde debajo de las pastillas de silicio (22) se efectua aqui solamente una pequeña aplicacion de solucion corrosiva (21). En un segundo paso del procedimiento se humectan las pastillas de silicio (22) desde abajo con una solucion corrosiva (35) para la corrosion pulidora, en concreto exclusivamente desde abajo, con la misma orientacion de dichas pastillas que en el primer paso del procedimiento.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/006778

Fecha de Presentación:

17-06-2010

Clasificación:

H01L21/00 (2006-01), B05C1/02 (2006-01), B05C1/08 (2006-01)

Solicitante(s):

GEBR. SCHMID GMBH & CO.; Robert-Bosch-Strasse 32-34, 72250, Freudenstadt, ALEMANIA

Inventor(es):

HEINZ KAPPLER, Bergwiese 11, 72280, Dornstetten-Aach, ALEMANIA

Información Adicional

El silicio es uno de los materiales más utilizados en la fabricación de diferentes dispositivos electrónicos. Se encuentra en forma de pastillas, las cuales deben ser tratadas de manera adecuada para asegurar su eficacia y calidad. En este artículo, hablaremos sobre el procedimiento y dispositivo de tratamiento de pastillas de silicio. El proceso de tratamiento de pastillas de silicio es fundamental para la fabricación de componentes electrónicos, como los microprocesadores. El objetivo principal es obtener pastillas de silicio de alta pureza, que permitan la producción de componentes de alta calidad y rendimiento. El procedimiento de tratamiento de pastillas de silicio incluye varias etapas, entre las que se encuentran la limpieza, el grabado, la oxidación y la difusión. La limpieza es la primera etapa y consiste en eliminar cualquier impureza que pueda afectar la calidad de la pastilla. El grabado se utiliza para eliminar la capa superficial de la pastilla y mejorar su calidad. La oxidación se utiliza para crear una capa de óxido en la superficie de la pastilla, lo que permite la difusión de impurezas en la pastilla. Para llevar a cabo el proceso de tratamiento de pastillas de silicio, se utiliza un dispositivo denominado horno de difusión. Este dispositivo consiste en un horno en el que se colocan las pastillas de silicio y se someten a diferentes temperaturas y gases para llevar a cabo el proceso de difusión. El horno de difusión es un dispositivo muy preciso y controlado, que permite obtener pastillas de silicio de alta calidad y pureza. En conclusión, el tratamiento de pastillas de silicio es un proceso fundamental para la fabricación de componentes electrónicos. El procedimiento de tratamiento incluye varias etapas, entre las que se encuentran la limpieza, el grabado, la oxidación y la difusión. Para llevar a cabo este proceso, se utiliza un dispositivo denominado horno de difusión, que permite obtener pastillas de silicio de alta calidad y pureza. Es importante destacar que el tratamiento de pastillas de silicio es un proceso muy preciso y controlado, que requiere de personal altamente capacitado y de equipos especializados.

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