Procedimiento De Deposicion.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

El procedimiento de deposicion comprende las siguientes fases: colocar un subestrato que se va a cubrir en un entorno de deposicion en el que la presion de deposicion es menor a la presion atmosferica; aplicar un revestimiento de material metalico en el estado nebulizado sobre dicho subestrato que se va a cubrir para que se obtenga un subestracto cubierto siempre que dicho subestrato que se va a cubrir este purificado.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/007028

Fecha de Presentación:

21-06-2010

Clasificación:

C23C14/02 (2006-01), C23C14/20 (2006-01)

Solicitante(s):

GIANPAOLO GIRARDELLO; Via Bastia Vecchia, 14/D, I-31033, Castelfranco Veneto (TV), ITALIA

Inventor(es):

GIANPAOLO GIRARDELLO, Via Bastia Vecchia, 14/D, I-31033, Castelfranco Veneto (TV), ITALIA

Información Adicional

El procedimiento de deposición es una técnica utilizada en la fabricación de dispositivos electrónicos y semiconductores. Consiste en depositar una capa delgada de material sobre un sustrato, utilizando diversas técnicas como la deposición química en fase vapor (CVD), la deposición física en fase vapor (PVD), la deposición electroquímica (ECD) o la deposición por inmersión (DIP). Este proceso es esencial para la fabricación de circuitos integrados y otros dispositivos electrónicos avanzados. El objetivo de la deposición es crear una capa uniforme y de alta calidad que pueda ser utilizada para la fabricación de componentes electrónicos. La patente de procedimiento de deposición describe un método mejorado para depositar capas delgadas de material sobre un sustrato. El procedimiento utiliza una técnica de deposición por inmersión que permite la formación de capas uniformes y de alta calidad. El proceso comienza con la preparación del sustrato, que se limpia y se somete a un tratamiento previo para mejorar la adherencia del material. Luego, el sustrato se sumerge en una solución que contiene el material que se va a depositar. La solución se agita para asegurar una distribución uniforme del material y se controla la temperatura y la concentración de la solución para obtener una capa de espesor uniforme. Una vez que se ha formado la capa, el sustrato se enjuaga y se seca para eliminar cualquier residuo. La patente de procedimiento de deposición es una técnica muy efectiva para la fabricación de componentes electrónicos avanzados. Su capacidad para producir capas uniformes y de alta calidad la hace ideal para su uso en la fabricación de circuitos integrados y otros dispositivos electrónicos. En conclusión, el procedimiento de deposición es una técnica esencial en la fabricación de dispositivos electrónicos y semiconductores. La patente de procedimiento de deposición describe un método mejorado para la deposición de capas delgadas de material que es altamente efectivo y útil para la fabricación de componentes electrónicos avanzados.

Otras Patentes Recientes

Nota: Para más información sobre estas u otras patentes, visite nuestro directorio de patentes.