Procedimiento De Deposicion.
El procedimiento de deposición es una técnica utilizada en la fabricación de dispositivos electrónicos y semiconductores. Consiste en depositar una capa delgada de material sobre un sustrato, utilizando diversas técnicas como la deposición química en fase vapor (CVD), la deposición física en fase vapor (PVD), la deposición electroquímica (ECD) o la deposición por inmersión (DIP).
Este proceso es esencial para la fabricación de circuitos integrados y otros dispositivos electrónicos avanzados. El objetivo de la deposición es crear una capa uniforme y de alta calidad que pueda ser utilizada para la fabricación de componentes electrónicos.
La patente de procedimiento de deposición describe un método mejorado para depositar capas delgadas de material sobre un sustrato. El procedimiento utiliza una técnica de deposición por inmersión que permite la formación de capas uniformes y de alta calidad.
El proceso comienza con la preparación del sustrato, que se limpia y se somete a un tratamiento previo para mejorar la adherencia del material. Luego, el sustrato se sumerge en una solución que contiene el material que se va a depositar.
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La solución se agita para asegurar una distribución uniforme del material y se controla la temperatura y la concentración de la solución para obtener una capa de espesor uniforme. Una vez que se ha formado la capa, el sustrato se enjuaga y se seca para eliminar cualquier residuo.
La patente de procedimiento de deposición es una técnica muy efectiva para la fabricación de componentes electrónicos avanzados. Su capacidad para producir capas uniformes y de alta calidad la hace ideal para su uso en la fabricación de circuitos integrados y otros dispositivos electrónicos.
En conclusión, el procedimiento de deposición es una técnica esencial en la fabricación de dispositivos electrónicos y semiconductores. La patente de procedimiento de deposición describe un método mejorado para la deposición de capas delgadas de material que es altamente efectivo y útil para la fabricación de componentes electrónicos avanzados.
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Descripcion: El procedimiento de deposicion comprende las siguientes fases: colocar un subestrato que se va a cubrir en un entorno de deposicion en el que la presion de deposicion es menor a la presion atmosferica; aplicar un revestimiento de material metalico en el estado nebulizado sobre dicho subestrato que se va a cubrir para que se obtenga un subestracto cubierto siempre que dicho subestrato que se va a cubrir este purificado.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Procedimiento De Deposicion. en México
Solicitud: MX/a/2010/007028
Fecha de Presentacion: 2010-06-21
Solicitante(s): GIANPAOLO GIRARDELLO; Via Bastia Vecchia, 14/D, I-31033, Castelfranco Veneto (TV), ITALIA
Inventor(es): GIANPAOLO GIRARDELLO, Via Bastia Vecchia, 14/D, I-31033, Castelfranco Veneto (TV), ITALIA
Clasificacion: C23C14/02 (2006-01), C23C14/20 (2006-01) referente a Procedimiento De Deposicion.