Plancha Para Ropa Con Medios Para Inducir Movimiento Oscilatorio Orbital En La Placa Base.
La plancha para ropa es un electrodoméstico que se utiliza en todo el mundo para mantener la ropa limpia y presentable. Sin embargo, aunque la mayoría de las planchas siguen siendo efectivas en su función principal, hay una necesidad de mejorar la eficiencia y la facilidad de uso. La patente de la plancha para ropa con medios para inducir movimiento oscilatorio orbital en la placa base es una solución innovadora para este problema.
La plancha para ropa con medios para inducir movimiento oscilatorio orbital en la placa base cuenta con una placa base que se mueve en un movimiento oscilatorio orbital. La placa base está conectada a un motor que produce un movimiento circular que hace que la placa base se mueva en un patrón oscilatorio. Este patrón de movimiento ayuda a distribuir uniformemente el calor en la placa base, lo que a su vez ayuda a mejorar la eficiencia de la plancha.
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Además, la plancha para ropa con medios para inducir movimiento oscilatorio orbital en la placa base también cuenta con una serie de sensores que detectan la temperatura de la placa base y ajustan automáticamente la velocidad del motor para mantener una temperatura constante. Esto ayuda a garantizar que la plancha no se sobrecaliente y que la ropa se planche de manera uniforme.
Otra ventaja de la plancha para ropa con medios para inducir movimiento oscilatorio orbital en la placa base es que cuenta con una serie de ajustes de temperatura que se pueden personalizar para diferentes tipos de telas. Esto ayuda a garantizar que la plancha no dañe las telas delicadas y que se puedan planchar diferentes tipos de telas con facilidad.
En resumen, la patente de la plancha para ropa con medios para inducir movimiento oscilatorio orbital en la placa base es una solución innovadora para mejorar la eficiencia y la facilidad de uso de las planchas para ropa. Con su movimiento oscilatorio orbital, sensores de temperatura y ajustes personalizados de temperatura, esta plancha es una excelente opción para cualquier persona que busque una plancha de alta calidad y fácil de usar.
Algunas patentes que relacionadas son: * BISAGRA DE PIVOTE UNICO CON ASISTENCIA DE MUELLE EN ESPIRAL INTEGRAL.
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Descripcion: Una plancha para ropa que comprende un cuerpo (2) y una placa base (3). El cuerpo (2) se soporta sobre la placa base (3) por medio de resortes lateralmente resilientes (4). Los resortes permiten el movimiento en forma lateral de la placa base (3) con relacion al cuerpo (2). Un motor (8) tiene un eje (9) que porta una porcion excentrica (10) que se recibe dentro de un receptaculo proporcionado en la superficie superior de la placa base. Asi, la operacion del motor hara que la placa base realice el movimiento oscilatorio orbital con relacion al cuerpo, en el plano de la superficie de la placa base.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Plancha Para Ropa Con Medios Para Inducir Movimiento Oscilatorio Orbital En La Placa Base. en México
Solicitud: MX/a/2007/016131
Fecha de Presentacion: 2007-12-17
Solicitante(s):
Inventor(es): PERVEZ AKHTER, 31 Denmark Road, NN1 5QR, Northampton, REINO UNIDO
Clasificacion: D06F75/38 (2006-01) referente a Plancha Para Ropa Con Medios Para Inducir Movimiento Oscilatorio Orbital En La Placa Base.