Oblea Resistente A La Humedad.

Información de Patente de Invención

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La presente invencion se refiere a una oblea tolerante a la humedad o resistente a la humedad que retiene su textura crujiente cuando se expone a humedad.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2009/009976

Fecha de Presentación:

18-09-2009

Clasificación:

A21D13/00 (2006-01), A21D13/06 (2006-01), A23G3/54 (2006-01), A23K1/165 (2006-01), A23L1/03 (2006-01), A23L1/09 (2006-01), A23L1/307 (2006-01)

Solicitante(s):

NESTEC S.A.; Avenue Nestle 55, CH-1800, Vevey, SUIZA

Inventor(es):

CARL ERIK HANSEN, PIERRE NICOLAS, BALTASAR VALLES PAMIES, Ch. du Pre-d´Yverdon 5E, CH-1066, Epalinges, SUIZA

Información Adicional

La oblea resistente a la humedad es una patente que ha sido desarrollada para ofrecer una solución a los problemas que se presentan en la fabricación de obleas de silicio para su uso en la producción de dispositivos electrónicos. Con esta patente, se ha logrado crear una oblea que es capaz de resistir la humedad y otros factores ambientales que pueden afectar su calidad y rendimiento. La oblea resistente a la humedad está diseñada para ser utilizada en la producción de dispositivos electrónicos que requieren una alta precisión y calidad. Estos dispositivos incluyen microprocesadores, circuitos integrados y otros componentes electrónicos que se utilizan en la industria de la electrónica. La oblea resistente a la humedad se fabrica utilizando un proceso especial que implica la utilización de materiales y técnicas de fabricación avanzadas. Estos materiales y técnicas se han desarrollado para garantizar que la oblea sea capaz de resistir la humedad y otros factores ambientales que pueden afectar su calidad y rendimiento. Una de las principales ventajas de la oblea resistente a la humedad es su durabilidad. Al ser capaz de resistir la humedad y otros factores ambientales, esta oblea puede durar mucho más tiempo que las obleas convencionales. Esto significa que los dispositivos electrónicos que se producen con esta oblea tendrán una vida útil más larga y serán más fiables. Además, la oblea resistente a la humedad también puede mejorar la eficiencia de la producción de dispositivos electrónicos. Al ser más duradera y fiable, esta oblea puede reducir el número de dispositivos que se descartan debido a problemas relacionados con la calidad. Esto, a su vez, puede reducir los costos de producción y mejorar la rentabilidad de la empresa. En resumen, la oblea resistente a la humedad es una patente innovadora que ofrece una solución a los problemas que se presentan en la fabricación de obleas de silicio para su uso en la producción de dispositivos electrónicos. Con esta patente, se ha logrado crear una oblea que es capaz de resistir la humedad y otros factores ambientales que pueden afectar su calidad y rendimiento, lo que puede mejorar la eficiencia de la producción y la rentabilidad de la empresa.

Otras Patentes Recientes

Nota: Para más información sobre estas u otras patentes, visite nuestro directorio de patentes.