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Metodos Para Producir Depositos De Aleaciones Y Controlar La Nanoestructura De Los Mismos Usando Electro Deposicion Pulsatil De Corriente Negativa, Y Articulos Que Incorporan Esos Depositos.


Los avances tecnológicos en la producción de aleaciones y la manipulación de su nanoestructura son de gran importancia en numerosas aplicaciones industriales, desde la fabricación de componentes de alta resistencia en la industria aeroespacial hasta la producción de dispositivos electrónicos de última generación.

La patente de "Métodos para producir depósitos de aleaciones y controlar la nanoestructura de los mismos usando electro deposición pulsátil de corriente negativa, y artículos que incorporan esos depósitos" presenta una innovadora técnica para la producción de aleaciones con una estructura de tamaño nanométrico controlada.
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La técnica de electro deposición pulsátil de corriente negativa (PNEG) se utiliza para depositar capas de aleación en un sustrato utilizando un electrolito que contiene iones metálicos. El proceso de PNEG implica la aplicación de pulsos de corriente negativa a la solución de electrolito, lo que produce una oscilación en la corriente que resulta en una deposición de aleación altamente controlada.

La patente también describe el uso de técnicas de control de nanoestructura para manipular la estructura de la aleación depositada. Al controlar el tamaño de los cristales de la aleación, se puede mejorar significativamente sus propiedades mecánicas y químicas.

Los artículos que incorporan los depósitos de aleación producidos por esta técnica tienen una amplia variedad de aplicaciones, desde dispositivos electrónicos hasta la fabricación de componentes de alta resistencia en la industria aeroespacial.

En resumen, la patente de "Métodos para producir depósitos de aleaciones y controlar la nanoestructura de los mismos usando electro deposición pulsátil de corriente negativa, y artículos que incorporan esos depósitos" presenta una innovadora técnica para la producción de aleaciones con una estructura de tamaño nanométrico controlada. Esta técnica tiene una amplia variedad de aplicaciones en numerosas industrias y puede mejorar significativamente las propiedades mecánicas y químicas de los materiales utilizados en la fabricación de diversos productos.
Algunas patentes que relacionadas son:

* SISTEMA Y PROCESO DE LIMPIEZA DE GAS DE COMBUSTION SECO Y HUMEDO, INTEGRADOS.
* METODO PARA INCREMENTAR LA FIBRONECTINA.
* TECNICA PARA DETECTAR MICROORGANISMOS.
* METODO Y APARATO PARA MEJORAR LA FIABILIDAD DE TRANSMISION DE DATOS EN UN SISTEMA DE COMUNICACION INALAMBRICA.
* APARATO DE MANDO CON MONITORIZACION DE ELEMENTO DE CONMUTACION.
* CONECTOR ELECTRICO CON ENSAMBLE DE BRIDA DE ENCHUFE Y METODOS RELACIONADOS.
* CONECTOR ELECTRICO QUE INCLUYE SELLOS DE EXTREMO DE CABLE Y METODOS RELACIONADOS.



Descripcion: Se usa corriente bipolar (inversion de impulsos), con porciones de corriente positivas y negativas para electrodepositar un deposito de tamaño de grano nanocristalino. El tamaño del grano puede ser controlado con precision en aleaciones. El deposito exhibe calidad macroscopica superior, siendo relativamente libre de cuarteadora y hueco. Los parametros de densidad de corriente, duracion de las porciones de impulso, y composicion del baño son determinados con referencia a relaciones constitutivas que muestran el tamaño de grano como funcion de la composicion de deposito, y la composicion de deposito como funcion de la Relacion de Polaridad. Los parametros pueden utilizarse para seleccionar un tamaño de grano especifico. Los recubrimientos pueden estar en capas, teniendo cada una un tamaño de grano promedio, el cual puede variar de capa a capa y tambien en una region en una forma gradual.

Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Metodos Para Producir Depositos De Aleaciones Y Controlar La Nanoestructura De Los Mismos Usando Electro Deposicion Pulsatil De Corriente Negativa, Y Articulos Que Incorporan Esos Depositos. en México

Solicitud: MX/a/2007/015660

Fecha de Presentacion: 2007-12-07

Solicitante(s):

Inventor(es): ANDREW J. DETOR, CHRISTOPHER A. SCHUH, 36 Lincoln Pkwy., 02143, Somerville, Massachusetts, E.U.A.

Clasificacion: C25D3/56 (2006-01), C25D5/18 (2006-01) referente a Metodos Para Producir Depositos De Aleaciones Y Controlar La Nanoestructura De Los Mismos Usando Electro Deposicion Pulsatil De Corriente Negativa, Y Articulos Que Incorporan Esos Depositos.



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