Metodo Para Fabricar Una Superficie Tratada Y Fuentes De Plasma De Vacio.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Se describe el tratamiento de superficies de pieza de trabajo o sustrato con la ayuda de una descarga de plasma de vacio entre un anodo (9) y un catodo (7) y por lo que debido a tal tratamiento se forma un solido (19) y se deposita en la superficie de anodo (21), cuyo solido tiene una impedancia de corriente continua especifica ma alta que la impedancia de corriente continua especifica del material de anodo, por lo menos parte de la superficie de anodo es protegido de tal deposicion estableciendo en ese lugar un plasma de proteccion (25).

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/004854

Fecha de Presentación:

30-04-2010

Clasificación:

H01J37/32 (2006-01)

Solicitante(s):

OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH; , CH-9477, Trübbach, SUIZA

Inventor(es):

BENO WIDRIG, JUERGEN RAMM, DENIS KURAPOV, Muehlebuendtestrasse 12, CH-7304, Maienfeld, SUIZA

Información Adicional

El método para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacío es una patente que ha sido desarrollada para mejorar la calidad de las superficies de diferentes materiales, así como para aumentar la eficiencia de las fuentes de plasma de vacío. La tecnología de plasma de vacío se utiliza en muchos procesos industriales, desde la fabricación de semiconductores hasta la producción de dispositivos electrónicos. Sin embargo, la eficiencia de estas fuentes de plasma puede verse comprometida por la presencia de partículas en la superficie del material que se está tratando. El método para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacío resuelve este problema mediante la creación de una capa de material de alta pureza en la superficie del material a tratar. Esta capa se crea mediante la exposición del material a una fuente de plasma de vacío, que elimina las impurezas y crea una superficie limpia y uniforme. Además, el método también mejora la eficiencia de las fuentes de plasma de vacío mediante el uso de una nueva tecnología de fuente de plasma que utiliza un electrodo hueco. Esta tecnología permite una mayor eficiencia y control sobre el plasma, lo que se traduce en una mayor calidad en el tratamiento de materiales. En resumen, el método para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacío es una patente innovadora que mejora la calidad de las superficies de diferentes materiales y aumenta la eficiencia de las fuentes de plasma de vacío. Esta tecnología tiene el potencial de mejorar muchos procesos industriales y de fabricación, y es un ejemplo de cómo la innovación puede impulsar el progreso en diferentes campos.

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