Metodo Para Fabricar Una Superficie Tratada Y Fuentes De Plasma De Vacio.
El método para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacío es una patente que ha sido desarrollada para mejorar la calidad de las superficies de diferentes materiales, así como para aumentar la eficiencia de las fuentes de plasma de vacío.
La tecnología de plasma de vacío se utiliza en muchos procesos industriales, desde la fabricación de semiconductores hasta la producción de dispositivos electrónicos. Sin embargo, la eficiencia de estas fuentes de plasma puede verse comprometida por la presencia de partículas en la superficie del material que se está tratando.
El método para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacío resuelve este problema mediante la creación de una capa de material de alta pureza en la superficie del material a tratar. Esta capa se crea mediante la exposición del material a una fuente de plasma de vacío, que elimina las impurezas y crea una superficie limpia y uniforme.
Además, el método también mejora la eficiencia de las fuentes de plasma de vacío mediante el uso de una nueva tecnología de fuente de plasma que utiliza un electrodo hueco. Esta tecnología permite una mayor eficiencia y control sobre el plasma, lo que se traduce en una mayor calidad en el tratamiento de materiales.
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En resumen, el método para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacío es una patente innovadora que mejora la calidad de las superficies de diferentes materiales y aumenta la eficiencia de las fuentes de plasma de vacío. Esta tecnología tiene el potencial de mejorar muchos procesos industriales y de fabricación, y es un ejemplo de cómo la innovación puede impulsar el progreso en diferentes campos.
Algunas patentes que relacionadas son: * ADHESIVOS DE PASTA EPOXI RESISTENTES AL LAVADO.
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* NUEVA COMPOSICION PARA TRATAR LOS EFECTOS SECUNDARIOS DEL TRATAMIENTO ANTICANCEROSO.
* COMPOSICION ENFRIADORA DE LA PIEL.
* BOLSITAS CON ABERTURA INFERIOR Y PRODUCTOS DE CONSUMO HECHOS UTILIZANDO TALES BOLSITAS.
* PRODUCTO DE PAPEL ABSORBENTE QUE TIENE MARCAS DISTINTIVAS CON UNA AMPLIA PALETA DE COLORES.
Descripcion: Se describe el tratamiento de superficies de pieza de trabajo o sustrato con la ayuda de una descarga de plasma de vacio entre un anodo (9) y un catodo (7) y por lo que debido a tal tratamiento se forma un solido (19) y se deposita en la superficie de anodo (21), cuyo solido tiene una impedancia de corriente continua especifica ma alta que la impedancia de corriente continua especifica del material de anodo, por lo menos parte de la superficie de anodo es protegido de tal deposicion estableciendo en ese lugar un plasma de proteccion (25).
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Metodo Para Fabricar Una Superficie Tratada Y Fuentes De Plasma De Vacio. en México
Solicitud: MX/a/2010/004854
Fecha de Presentacion: 2010-04-30
Solicitante(s): OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH; , CH-9477, Trübbach, SUIZA
Inventor(es): BENO WIDRIG, JUERGEN RAMM, DENIS KURAPOV, Muehlebuendtestrasse 12, CH-7304, Maienfeld, SUIZA
Clasificacion: H01J37/32 (2006-01) referente a Metodo Para Fabricar Una Superficie Tratada Y Fuentes De Plasma De Vacio.