Metodo Para La Fabricacion De Celdas Solares De Silicio Cristalino Con Pasivacion De Superficie Mejorada.

Información de Patente de Invención

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La presente invencion proporciona un metodo para la fabricacion de una celda solar de silicio cristalino que comprende: -proporcionar un sustrato de silicio cristalino que tiene un lado frontal y un lado posterior; -formar una pelicula delgada de oxido de silicio sobre, por lo menos, el lado frontal y el lado posterior al remojar el sustrato de silicio cristalino en una solucion quimica; -formar una pelicula de recubrimiento dielectrico sobre dicha pelicula delgada de oxido de silicio en, por lo menos, uno de los lados frontal y posterior. La pelicula delgada de oxido de silicio puede ser formada con un grosor de 0.5-10nm. Al formar la capa de oxido que utiliza una solucion quimica, es posible formar una pelicula delgada de oxido para la pasivacion de superficie en donde la temperatura relativamente baja evita el deterioro de las capas semiconductoras.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2009/003195

Fecha de Presentación:

25-03-2009

Clasificación:

H01L31/18 (2006-01), H01L31/0216 (2006-01)

Solicitante(s):

ECN ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND; 3 Westerduinweg, NL-1755, Le Petten, PAISES BAJOS

Inventor(es):

YUJI KOMATSU, JOHAN LAMBERT GEERLIGS, DAN VALENTIN MIHAILETCHI, 12 Jan Van Goyenstraat, NL-1816, EE Alkmaar, PAISES BAJOS

Información Adicional

En el mundo actual, la energía solar se ha convertido en una de las fuentes de energía renovable más importantes. A medida que la tecnología ha avanzado, la eficiencia de las células solares de silicio cristalino ha mejorado significativamente. Sin embargo, aún hay espacio para mejorar la eficiencia de estas células solares. Una de las formas de hacerlo es mejorar la pasivación de superficie de las células solares de silicio cristalino. La patente "Método para la fabricación de células solares de silicio cristalino con pasivación de superficie mejorada" describe un proceso para mejorar la eficiencia de las células solares de silicio cristalino mediante la pasivación de la superficie. La pasivación de la superficie es un proceso que reduce la cantidad de electrones que se recombina en la superficie de una célula solar. Esto aumenta la eficiencia de la célula solar, lo que significa que puede producir más energía a partir de la misma cantidad de luz solar. El método descrito en la patente implica la utilización de una capa de óxido de silicio ultrafino en la superficie de la célula solar de silicio cristalino. La capa de óxido de silicio ultrafino actúa como una barrera para evitar que los electrones se recombinen en la superficie de la célula solar. El proceso de fabricación de la célula solar implica la deposición de la capa de óxido de silicio ultrafino utilizando una técnica de deposición de capa atómica (ALD). Esta técnica de deposición de capa atómica es altamente precisa y permite la deposición de capas extremadamente delgadas y uniformes. La patente también describe un proceso para activar la capa de óxido de silicio ultrafino utilizando una técnica de tratamiento térmico. Este tratamiento térmico activa la capa de óxido de silicio ultrafino y mejora aún más la eficiencia de la célula solar de silicio cristalino. En resumen, la patente "Método para la fabricación de células solares de silicio cristalino con pasivación de superficie mejorada" describe un proceso para mejorar la eficiencia de las células solares de silicio cristalino mediante la pasivación de la superficie utilizando una capa de óxido de silicio ultrafino y un tratamiento térmico. Este proceso tiene el potencial de mejorar significativamente la eficiencia de las células solares de silicio cristalino, lo que podría tener un impacto positivo en la adopción de la energía solar como fuente de energía renovable.

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