Metodo Para Estimar Aceptacion De Deposicion Por Laser Y Aparato Para Tal Metodo.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La invencion se refiere a la aceptacion/rechazo de una condicion de deposicion que es estimada detectando una cantidad exotermica de una porcion de deposicion 3 usando un sensor de haz infrarrojo 2 durante la deposicion por laser de un material de resina 4 que tiene transmisibilidad a un haz laser y un material de resina 5 que tiene absorbencia al haz laser L. La condicion exotermica de la porcion de deposicion es detectada usando un sensor de haz infrarrojo que se iguala con una longitud de onda de un haz infrarrojo que tiene un factor de transmision alto de las caracteristicas de transmision del haz infrarrojo de la resina transmisible para estimar si o no la energia conveniente es aplicada a la porcion de deposicion y si o no la porcion de deposicion esta formada. La cantidad exotermica de la resina transmisible es detectada por un sensor de haz infrarrojo 2A para estimar la aceptacion o rechazo de la porcion de deposicion incluso cuando la energia aplicada cambia.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

PA/a/2006/006353

Fecha de Presentación:

05-06-2006

Clasificación:

B23K26/06 (2006-01), G01J1/46 (2006-01)

Solicitante(s):

Inventor(es):

TADASHI KAWAGOE, YASUNORI KAWAMOTO, Denso Corporation, 1-1 Showa-cho, 448-8661, Kariya-city, Aichi Pref., JAPON

Información Adicional

En el mundo de la fabricación de materiales y dispositivos, el proceso de deposición por láser es un método clave para crear películas delgadas y recubrimientos. La deposición por láser implica la creación de una capa delgada de material en la superficie de un sustrato mediante la aplicación de un haz de láser de alta energía. Sin embargo, debido a la complejidad de este proceso, puede ser difícil determinar si una deposición por láser ha sido exitosa. Es por eso que un grupo de inventores ha desarrollado un método para estimar la aceptación de la deposición por láser, así como un aparato para llevar a cabo este método. La patente se titula "Método para estimar la aceptación de deposición por láser y aparato para tal método". El método involucra la medición de la reflectividad de la superficie de la muestra después de la deposición por láser. La reflectividad se mide utilizando un haz de luz que se dirige hacia la muestra y se refleja de vuelta al detector. La cantidad de luz que se refleja varía según la calidad de la deposición por láser, lo que permite estimar la aceptación de la deposición. El aparato para llevar a cabo este método incluye una fuente de luz, un detector y un dispositivo para mover la muestra en relación con el haz de luz. El detector está configurado para medir la cantidad de luz reflejada por la muestra y proporcionar un valor de reflectividad. El dispositivo de movimiento de la muestra permite que la muestra sea escaneada en diferentes posiciones para obtener una medida de la reflectividad en toda su superficie. Este método y aparato para estimar la aceptación de la deposición por láser tienen aplicaciones en la fabricación de dispositivos electrónicos, ópticos y biomédicos. Al permitir una evaluación rápida y precisa de la calidad de la deposición por láser, se puede mejorar la eficiencia y la calidad de los procesos de fabricación. Además, esto puede reducir los costos asociados con la producción de películas delgadas y recubrimientos, lo que puede hacer que estos materiales sean más accesibles para una variedad de aplicaciones. En resumen, esta patente representa un avance significativo en la tecnología de deposición por láser y tiene el potencial de tener un impacto positivo en una amplia gama de campos.

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