Metodo Y Aparato De Nanomodelado De Areas Grandes.
La nanotecnología es un campo de la ciencia que se enfoca en la manipulación de materiales a nivel molecular y atómico. Uno de los mayores desafíos en este campo es la creación de aparatos y técnicas que permitan la fabricación de estructuras a gran escala. En este sentido, el método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es una herramienta que ha revolucionado la forma en que se producen estructuras a nanoescala.
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El método y aparato de nanomodelado de áreas grandes se basa en la utilización de un haz de iones para tallar patrones en la superficie de un material. Este proceso es conocido como litografía por haz de iones y permite la creación de estructuras con una precisión de hasta unos pocos nanómetros. Este nivel de precisión es fundamental en la creación de dispositivos electrónicos, sensores y otros productos basados en la nanotecnología.
Una de las principales ventajas de este método es su capacidad para trabajar con áreas grandes. Esto significa que se pueden crear patrones en superficies de varios centímetros cuadrados, lo que es esencial para la producción a gran escala. Además, el método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es altamente reproducible, lo que significa que se pueden producir estructuras idénticas en serie.
Otro beneficio del método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es su capacidad para trabajar con una amplia gama de materiales. Desde metales hasta polímeros y cerámicos, este método puede utilizarse en una variedad de aplicaciones que van desde la electrónica hasta la medicina.
En conclusión, el método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es una herramienta esencial en la producción de estructuras a nanoescala. Con su capacidad para trabajar con áreas grandes, una amplia gama de materiales y su alta precisión, este método es un paso importante en la fabricación de dispositivos y productos basados en la nanotecnología. Sin duda, el futuro de la nanotecnología depende en gran medida de la evolución de este método y aparato.
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Descripcion: Las modalidades de la invenci6n se refieren a metodos y aparatos útiles en el nanomodelado de sustratos de area grande, donde se usa una mascara giratoria para formar con imagenes un material sensible a radiacion. Tipicamente, la mascara giratoria comprende un cilindro. La tecnica de nanomodelado hace uso de fotolitografia de campo proximo, donde la mascara usada para modelar el substrato esta en contacto dinamico con el substrato. La fotolitografia de campo proximo puede hacer uso de una mascara elastomerica de cambio de fase, o puede emplear tecnologia de plasmon superficial, donde una superficie del cilindro giratorio comprende nanoagujeros o nanoparticulas metalicas.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Metodo Y Aparato De Nanomodelado De Areas Grandes. en México
Solicitud: MX/a/2010/007954
Fecha de Presentacion: 2010-07-21
Solicitante(s): ROLITH, INC.; 4292 Keegan Street, 94568, Dublin, California, E.U.A.
Inventor(es): BORIS KOBRIN, IGOR LANDAU, BORIS VOLF, 4292 Keegan St., 94568, Dublin, California, E.U.A.
Clasificacion: H01L21/027 (2006-01) referente a Metodo Y Aparato De Nanomodelado De Areas Grandes.