Metodo Y Aparato De Nanomodelado De Areas Grandes.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Las modalidades de la invenci6n se refieren a metodos y aparatos útiles en el nanomodelado de sustratos de area grande, donde se usa una mascara giratoria para formar con imagenes un material sensible a radiacion. Tipicamente, la mascara giratoria comprende un cilindro. La tecnica de nanomodelado hace uso de fotolitografia de campo proximo, donde la mascara usada para modelar el substrato esta en contacto dinamico con el substrato. La fotolitografia de campo proximo puede hacer uso de una mascara elastomerica de cambio de fase, o puede emplear tecnologia de plasmon superficial, donde una superficie del cilindro giratorio comprende nanoagujeros o nanoparticulas metalicas.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/007954

Fecha de Presentación:

21-07-2010

Clasificación:

H01L21/027 (2006-01)

Solicitante(s):

ROLITH, INC.; 4292 Keegan Street, 94568, Dublin, California, E.U.A.

Inventor(es):

BORIS KOBRIN, IGOR LANDAU, BORIS VOLF, 4292 Keegan St., 94568, Dublin, California, E.U.A.

Información Adicional

La nanotecnología es un campo de la ciencia que se enfoca en la manipulación de materiales a nivel molecular y atómico. Uno de los mayores desafíos en este campo es la creación de aparatos y técnicas que permitan la fabricación de estructuras a gran escala. En este sentido, el método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es una herramienta que ha revolucionado la forma en que se producen estructuras a nanoescala. El método y aparato de nanomodelado de áreas grandes se basa en la utilización de un haz de iones para tallar patrones en la superficie de un material. Este proceso es conocido como litografía por haz de iones y permite la creación de estructuras con una precisión de hasta unos pocos nanómetros. Este nivel de precisión es fundamental en la creación de dispositivos electrónicos, sensores y otros productos basados en la nanotecnología. Una de las principales ventajas de este método es su capacidad para trabajar con áreas grandes. Esto significa que se pueden crear patrones en superficies de varios centímetros cuadrados, lo que es esencial para la producción a gran escala. Además, el método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es altamente reproducible, lo que significa que se pueden producir estructuras idénticas en serie. Otro beneficio del método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es su capacidad para trabajar con una amplia gama de materiales. Desde metales hasta polímeros y cerámicos, este método puede utilizarse en una variedad de aplicaciones que van desde la electrónica hasta la medicina. En conclusión, el método y aparato de nanomodelado de áreas grandes es una herramienta esencial en la producción de estructuras a nanoescala. Con su capacidad para trabajar con áreas grandes, una amplia gama de materiales y su alta precisión, este método es un paso importante en la fabricación de dispositivos y productos basados en la nanotecnología. Sin duda, el futuro de la nanotecnología depende en gran medida de la evolución de este método y aparato.

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