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Metodo Y Aparato Para Fabricacion De Sustratos Limpiados O Sustratos Limpios Que Son Procesados Adicionalmente.


La presente invención se refiere a un método y un aparato para la fabricación de sustratos limpiados o sustratos limpios que son procesados adicionalmente, lo cual es de gran importancia en ciertas industrias, como la electrónica, donde la limpieza de los sustratos es esencial para garantizar su correcto funcionamiento.

El método consiste en someter los sustratos a un proceso de limpieza mediante el uso de un gas de plasma, que se genera mediante la aplicación de una corriente eléctrica de alta frecuencia a través de un gas inerte, como argón o nitrógeno. Este proceso de limpieza es altamente efectivo en la eliminación de impurezas y contaminantes de la superficie del sustrato, como partículas de polvo, aceites, grasas y otros residuos.

Una vez que los sustratos han sido limpiados, se someten a un proceso adicional de procesamiento, que puede incluir la deposición de capas de material, la grabación de patrones o la realización de otras operaciones relacionadas con la fabricación de dispositivos electrónicos.

El aparato utilizado para llevar a cabo este método incluye una cámara de vacío, donde se coloca el sustrato a limpiar, y un generador de plasma, que se encarga de generar el gas de plasma utilizado en el proceso de limpieza. También se incluyen sistemas de control y monitoreo, que permiten ajustar y verificar los parámetros del proceso, como la potencia de la corriente eléctrica y la presión del gas.
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En resumen, este método y aparato para la fabricación de sustratos limpiados o sustratos limpios que son procesados adicionalmente representa una mejora significativa en la eficiencia y calidad de la fabricación de dispositivos electrónicos y otros productos que requieren superficies limpias y libres de contaminantes. Su aplicación en la industria puede resultar en una reducción en los costos de producción y una mejora en la fiabilidad y rendimiento de los productos fabricados.
Algunas patentes que relacionadas son:

* MODULADORES DE BIFENILSULFONILO Y FENIL-HETEROARILSULFONILO DEL RECEPTOR DE HISTAMINA H3 UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE TRASTORNOS RELACIONADOS CON LOS MISMOS.
* METODO PARA RESTAURAR EL EFECTO DE INCRETINA.
* METODO Y APARATO DE ASIGNACION DE TECLA DE AJUSTE PREVIO DE RADIO.
* INHIBIDORES DE EPOXIDO HIDROLASA SOLUBLE.
* MEJORAS DE AHORRO DE ENERGIA PARA COMUNICACION INALAMBRICA.
* METODO Y MEDIOS PARA PRODUCIR INDICIOS MAGNETICAMENTE INDUCIDOS EN UNA CUBIERTA QUE CONTIENE PARTICULAS MAGNETICAS.
* TERAPIA COMBINADA CON INHIBIDORES DE SGLT-2 Y SUS COMPOSICIONES FARMACEUTICAS.



Descripcion: Se describe la limpieza con grabado al agua fuerte por plasma de sustratos realizada por medio de un dispositivo de descarga de plasma que comprende un catodo de fuente de electron (5) y una serie de anodos (7). La serie de anodos (7) comprende en una parte un electrodo de anodo (9) y en otra parte un confinamiento (11) de la misma asilado de manera electrica. El confinamiento (11) tiene una abertura (13) dirigida hacia un area (S) de un sustrato (21) que sera limpiado. El catodo de fuente de electron (5) y el electrodo de anodo (9) se suministran de manera electrica mediante un circuito de suministro con una fuente de suministro (19). El circuito es operado de una manera electrica fluctuante.

Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Metodo Y Aparato Para Fabricacion De Sustratos Limpiados O Sustratos Limpios Que Son Procesados Adicionalmente. en México

Solicitud: MX/a/2009/004065

Fecha de Presentacion: 2009-04-16

Solicitante(s): OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH.*; c/o OC Oerlikon Balzers AG, Hauptstrasse, CH-9477, Trubbach, SUIZA

Inventor(es): DANIEL LENDI, SIEGFRIED KRASSNITZER, OLIVER GSTOEHL, Runastrasse 40a, A-6800, Feldkirch, AUSTRIA

Clasificacion: B08B7/00 (2006-01), H01J37/32 (2006-01), H01L21/00 (2006-01), H01L21/306 (2006-01) referente a Metodo Y Aparato Para Fabricacion De Sustratos Limpiados O Sustratos Limpios Que Son Procesados Adicionalmente.



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