Metodo Y Aparato Para Fabricacion De Sustratos Limpiados O Sustratos Limpios Que Son Procesados Adicionalmente.

Información de Patente de Invención

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Se describe la limpieza con grabado al agua fuerte por plasma de sustratos realizada por medio de un dispositivo de descarga de plasma que comprende un catodo de fuente de electron (5) y una serie de anodos (7). La serie de anodos (7) comprende en una parte un electrodo de anodo (9) y en otra parte un confinamiento (11) de la misma asilado de manera electrica. El confinamiento (11) tiene una abertura (13) dirigida hacia un area (S) de un sustrato (21) que sera limpiado. El catodo de fuente de electron (5) y el electrodo de anodo (9) se suministran de manera electrica mediante un circuito de suministro con una fuente de suministro (19). El circuito es operado de una manera electrica fluctuante.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2009/004065

Fecha de Presentación:

16-04-2009

Clasificación:

B08B7/00 (2006-01), H01J37/32 (2006-01), H01L21/00 (2006-01), H01L21/306 (2006-01)

Solicitante(s):

OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH.*; c/o OC Oerlikon Balzers AG, Hauptstrasse, CH-9477, Trubbach, SUIZA

Inventor(es):

DANIEL LENDI, SIEGFRIED KRASSNITZER, OLIVER GSTOEHL, Runastrasse 40a, A-6800, Feldkirch, AUSTRIA

Información Adicional

La presente invención se refiere a un método y un aparato para la fabricación de sustratos limpiados o sustratos limpios que son procesados adicionalmente, lo cual es de gran importancia en ciertas industrias, como la electrónica, donde la limpieza de los sustratos es esencial para garantizar su correcto funcionamiento. El método consiste en someter los sustratos a un proceso de limpieza mediante el uso de un gas de plasma, que se genera mediante la aplicación de una corriente eléctrica de alta frecuencia a través de un gas inerte, como argón o nitrógeno. Este proceso de limpieza es altamente efectivo en la eliminación de impurezas y contaminantes de la superficie del sustrato, como partículas de polvo, aceites, grasas y otros residuos. Una vez que los sustratos han sido limpiados, se someten a un proceso adicional de procesamiento, que puede incluir la deposición de capas de material, la grabación de patrones o la realización de otras operaciones relacionadas con la fabricación de dispositivos electrónicos. El aparato utilizado para llevar a cabo este método incluye una cámara de vacío, donde se coloca el sustrato a limpiar, y un generador de plasma, que se encarga de generar el gas de plasma utilizado en el proceso de limpieza. También se incluyen sistemas de control y monitoreo, que permiten ajustar y verificar los parámetros del proceso, como la potencia de la corriente eléctrica y la presión del gas. En resumen, este método y aparato para la fabricación de sustratos limpiados o sustratos limpios que son procesados adicionalmente representa una mejora significativa en la eficiencia y calidad de la fabricación de dispositivos electrónicos y otros productos que requieren superficies limpias y libres de contaminantes. Su aplicación en la industria puede resultar en una reducción en los costos de producción y una mejora en la fiabilidad y rendimiento de los productos fabricados.

Otras Patentes Recientes

Nota: Para más información sobre estas u otras patentes, visite nuestro directorio de patentes.