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Metodo Y Aparato Para Aumentar Un Cristal Veteado Con Enfriamiento Localizado.


En el mundo de la arquitectura y el diseño, la utilización de vidrios veteados se ha convertido en una tendencia cada vez más popular. Este tipo de vidrio, que cuenta con líneas o manchas de diferente tamaño y color, es capaz de añadir un toque de elegancia y sofisticación a cualquier proyecto.

Sin embargo, la producción de vidrios veteados puede ser un proceso complicado, ya que requiere de una técnica de enfriamiento específica para lograr los resultados deseados. Es por ello que ha surgido un nuevo método y aparato que promete hacer más sencillo y eficiente este proceso.
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El método consiste en aplicar un enfriamiento localizado en las zonas del vidrio donde se desea crear el efecto veteado. Para ello, se utiliza un dispositivo especial que se coloca en la superficie del vidrio y que es capaz de generar una temperatura fría en las áreas seleccionadas.

Este dispositivo, llamado "pistola de enfriamiento localizado", cuenta con una boquilla que se coloca en el vidrio y que emite un chorro de aire frío a una temperatura de -20°C. Gracias a esta técnica, se consigue enfriar rápidamente las zonas seleccionadas, lo que provoca la formación de las líneas y manchas características del vidrio veteado.

Este método y aparato para aumentar un cristal veteado con enfriamiento localizado ofrece numerosas ventajas. En primer lugar, permite una mayor precisión en la creación de los diseños, ya que se puede controlar con mayor facilidad el enfriamiento de las zonas seleccionadas. Además, se reduce el tiempo necesario para producir los vidrios veteados, lo que se traduce en una mayor eficiencia y rentabilidad.

En definitiva, este nuevo método y aparato para aumentar un cristal veteado con enfriamiento localizado promete revolucionar el mundo de la producción de vidrios veteados. Gracias a su precisión, rapidez y eficiencia, se convierte en una herramienta indispensable para cualquier profesional del sector que busque obtener los mejores resultados en sus proyectos.
Algunas patentes que relacionadas son:

* INSTALACION DE TRATAMIENTO AL VACIO Y METODO DE TRATAMIENTO AL VACIO.
* COMBINACIONES NOVEDOSAS DE NERAMEXANO PARA EL TRATAMIENTO DE TRASTORNOS NEURODEGENERATIVOS.
* AGENTES AGLUTINANTES QUE TIENEN NUMERO ALTO DE OH Y COMPOSICION DE PINTURA TRANSPARENTE COMPRENDIENDO DICHOS AGENTES Y TENIENDO BUENAS CARACTERISTICAS OPTICAS Y BUENA RESISTENCIA A RAYONES Y QUIMICOS.
* TIRA O CINTA DE CUIDADO BUCAL Y METODOS PARA USO Y FABRICACION DE LA MISMA.
* SELECCION DE MODO DE ADMINISTRACION DE MOVILIDAD EN REDES INALAMBRICAS DE ACCESO MULTIPLE.
* RECEPTOR DE ENTRADA AJUSTABLE PARA INTERFAZ DE ALTA VELOCIDAD Y BAJA POTENCIA.
* SELECCION QUIMICA ULTRARRAPIDA DE ORGANISMOS FOTOSINTETICOS MODIFICADOS GENETICAMENTE.



Descripcion: Un metodo para aumentar el cristal veteado provee crisol que contiene un material fundido, y pasa al menos dos sartas a trave de material fundido para producir un cristal veteado formado parcialmente; el metodo entonces dirige un fluido a una porcion dada del cristal veteado formado parcialmente para enfriar por conveccion la porcion dada.

Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Metodo Y Aparato Para Aumentar Un Cristal Veteado Con Enfriamiento Localizado. en México

Solicitud: MX/a/2009/012745

Fecha de Presentacion: 2009-11-24

Solicitante(s): EVERGREEN SOLAR, INC.*; 138 Bartlett Street, 01752, Marlborough, Massachusetts, E.U.A.

Inventor(es): HUANG, WEIDONG, HARVEY, DAVID, WALLACE, RICHARD, REITSMA, SCOTT, 9 Davis Road, Apt. C15, 01720, Acton, Massachusetts, E.U.A.

Clasificacion: C30B29/06 (2006-01), C30B15/14 (2006-01), C30B15/24 (2006-01) referente a Metodo Y Aparato Para Aumentar Un Cristal Veteado Con Enfriamiento Localizado.



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