Instalacion De Tratamiento Al Vacio Y Metodo De Tratamiento Al Vacio.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Se describe una unidad de tratamiento al vacio y proceso de tratamiento al vacio para llevar a cabo un proceso de plasma, en donde el tratamiento se lleva a cabo en una camara de vacio (1) en donde un aparato para producir una descarga de arco de tension baja (15) (LVAD), comprende un catodo (10) y un anodo (13) que puede conectarse electricamente al catodo via un generador de arco, y un soporte de la pieza de trabajo (7) para acomodar y mover las piezas de trabajo (2) donde puede electricamente conectarse con un generador de polarizacion (16) y tambien por lo menos una linea de alimentacion (8) para que el gas reactivo y/o inerte se prepare. Aqui, por lo menos parte de la superficie del anodo se hace de grafito y se opera a temperatura alta.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2009/012750

Fecha de Presentación:

24-11-2009

Clasificación:

C23C14/06 (2006-01), C23C14/02 (2006-01), C23C14/22 (2006-01), C23C16/26 (2006-01), C23C28/00 (2006-01), C23C30/00 (2006-01)

Solicitante(s):

OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH; Hauptstrasse, CH-9477, Trübbach, SUIZA

Inventor(es):

JÜRGEN RAMM, BENO WIDRIG, STEPHAN KASEMANN, MARCELO DORNELLES PIMENTA, ORLAW MASSLER, BARBARA HANSELMANN, Mühlebündtestrasse 12, CH-7304, Maienfeld, SUIZA

Información Adicional

La instalación de tratamiento al vacío es un proceso utilizado en una gran variedad de industrias, desde la alimentaria hasta la electrónica. Consiste en retirar el aire de un espacio cerrado para crear un ambiente sin oxígeno, lo que permite una serie de procesos que no serían posibles en condiciones normales. Este método de tratamiento al vacío se utiliza para una gran variedad de procesos, desde la eliminación de gases y humedad hasta la creación de capas delgadas en materiales. Además, también se utiliza para la conservación de alimentos y medicamentos, ya que el ambiente sin oxígeno impide el crecimiento de microorganismos. La instalación de tratamiento al vacío se compone de una serie de elementos, como una cámara de vacío, una bomba de vacío y un sistema de control. El proceso comienza con la introducción del material a tratar en la cámara y la creación del vacío mediante la bomba. Una vez que se alcanza el nivel de vacío deseado, se procede al tratamiento en sí. Existen varios métodos de tratamiento al vacío, como la evaporación, la deposición de capas delgadas y la sinterización. Cada método tiene sus propias aplicaciones y beneficios, y es importante elegir el método adecuado para cada proceso. En resumen, la instalación de tratamiento al vacío es una tecnología esencial en muchas industrias, que permite procesos que no serían posibles de otra manera. La elección del método de tratamiento adecuado es fundamental para obtener los mejores resultados.

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