Indoloquinoxalinas De Alquilo Sustituido.
Las indoloquinoxalinas de alquilo sustituido son un compuesto químico patentado que tiene aplicaciones en la industria farmacéutica y en la investigación de enfermedades. Este compuesto se caracteriza por la presencia de un grupo alquilo sustituido en la posición 1 de la molécula de indoloquinoxalina.
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La indoloquinoxalina es un compuesto aromático heterocíclico que tiene propiedades antioxidantes y antitumorales. Se ha demostrado que este compuesto inhibe la proliferación celular y la angiogénesis, lo que lo convierte en un candidato prometedor para el tratamiento del cáncer.
La presencia del grupo alquilo sustituido en la posición 1 de la molécula de indoloquinoxalina aumenta la solubilidad del compuesto y mejora su biodisponibilidad. Además, este grupo sustituyente puede ser modificado para mejorar la selectividad del compuesto hacia determinadas células o proteínas.
La síntesis de indoloquinoxalinas de alquilo sustituido se puede llevar a cabo mediante reacciones de acoplamiento de Suzuki-Miyaura o de Heck. Estas reacciones permiten la introducción controlada del grupo alquilo sustituido en la posición 1 de la molécula de indoloquinoxalina.
En conclusión, las indoloquinoxalinas de alquilo sustituido son un compuesto químico prometedor en la lucha contra el cáncer y otras enfermedades. Su síntesis se puede llevar a cabo mediante reacciones de acoplamiento de Suzuki-Miyaura o de Heck, lo que permite la introducción controlada del grupo alquilo sustituido en la posición 1 de la molécula de indoloquinoxalina.
Algunas patentes que relacionadas son: * AMBIENTE DE MOLDEO INTELIGENTE Y METODO DE CONTROL DE TONELAJE DE CIERRE APLICADO.
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* LAMINADO COMPUESTO CON CERO DEFORMACION, ACTIVABLE.
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Descripcion: Una indoloquinoxalina substituida nueva de la formula (IR2(I)Y en donde R1 es hidrogeno o representa uno o mas sustituyentes similares o diferentes en la posiciones 7 a 10 seleccionadas del grupo halogeno, alquilo inferior/alcoxi, hidroxi, trifluorometilo, triclorometilo, trifluorometoxi, R2 representa sustituyentes de alquil C1-C4 similares o diferentes, X es CO o CH2 Y es OH, NH2, NH-(CH2)n-R3 en donde R3 representa un alquilo inferior, OH, NH2, NH4 o NR5R6 en donde R4, R5 y R6 independientemente son alquilo inferior o cicloalquilo y n es un entero desde 2 hasta 4, con la prevencion que cuando X es CH2, Y es OH o NH-(CH2)n-OH, y sales farmaceuticamente aceptables del mismo son descritas. Los compuestos son utilizados como medicamentos para prevenir y/o tratar enfermedades autoinmunes.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Indoloquinoxalinas De Alquilo Sustituido. en México
Solicitud: PA/a/2006/014170
Fecha de Presentacion: 2006-12-05
Solicitante(s):
Inventor(es): JAN BERGMAN, ROBERT ENGQVIST, BENGT GERDIN, INGEMAR KIHLSTRÖM, ULF BJÖRKLUND, Lekgränd 5, S-163 60, Spanga, SUECIA
Clasificacion: C07D487/04 (2006-01), A61K31/4985 (2006-01), A61P25/00 (2006-01), A61P37/00 (2006-01) referente a Indoloquinoxalinas De Alquilo Sustituido.