Hirazidas Fotoeestabilizadoras Con Amina Impedida.
Las Hirazidas Fotoestabilizadoras con Amina Impedida son una nueva patente que ha sido desarrollada para mejorar la protección de los materiales expuestos a la luz solar. Esta innovación se basa en la utilización de hirazidas, que son compuestos orgánicos que tienen la capacidad de absorber la luz UV y evitar la degradación de los materiales.
La principal ventaja de esta patente es que se ha logrado mejorar la eficacia de las hirazidas al incorporar una amina impedida. Esto significa que se ha logrado reducir la reactividad de las hirazidas, lo que les permite actuar de forma más efectiva y prolongada en el tiempo.
Otra ventaja de las Hirazidas Fotoestabilizadoras con Amina Impedida es que son compatibles con una amplia gama de materiales, como plásticos, pinturas, textiles, entre otros. Además, no afectan las propiedades mecánicas ni estéticas de los materiales tratados.
Esta patente es especialmente útil para la protección de materiales que están expuestos a la luz solar de forma constante, como los materiales utilizados en la construcción de edificios, los textiles utilizados en la ropa deportiva, y los plásticos utilizados en la fabricación de muebles de exterior.
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En resumen, las Hirazidas Fotoestabilizadoras con Amina Impedida son una innovación importante en el campo de la protección de materiales expuestos a la luz solar. Su utilización puede prolongar la vida útil de los materiales y evitar la degradación prematura. Además, su compatibilidad con una amplia gama de materiales los hace una opción versátil y eficaz para la protección de diferentes tipos de materiales.
Algunas patentes que relacionadas son: * ARREGLO DE SELLO DE RANURA EN ESPIRAL PARA LIQUIDOS DE ALTA PRESION DE VAPOR.
* SELLO DE TIPO ABERTURA, SIN CONTACTO, QUE TIENE UN ANILLO CON UNA CARA DE SELLO CON UN PATRON MICRODIQUE.
* MATERIALES COLADOS COMPUESTOS.
* NOVEDOSO SISTEMA ANTIMICROBIANO DE AMPLIO ESPECTRO PARA LIMPIADORES DE SUPERFICIES DURAS.
* MECANISMO TRABADOR PARA MIEMBROS DESLIZABLES.
* PROCESO PARA EVITAR LA OXIDACION DE UN SUBSTRATO ORGANICO LIQUIDO.
* PROCESO PARA EVITAR LA OXIDACION DE UN SUBSTRATO ORGANICO LIQUIDO.
Descripcion: Se proveen hidrazidas de acido carboxilico, nuevas y novedosas, que lleva un anillo de 2,2,6,6-tetraalquil-4-piperidina, y composiciones polimericas nuevas y novedosas, estabilizadas con ellas. Los compuestos novedosos que contienen un grupo fotoestabilizador y una funcionalidad hidrazida reactiva en la misma molecula, son preparados mediante hidrazinolisis del grupo ester de un ester de acido carboxilico intermediario, que contiene la porcion 2,2,6,6-tetraalquilpiperidina.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Hirazidas Fotoeestabilizadoras Con Amina Impedida. en México
Solicitud: 9100235
Fecha de Presentacion: 1991-07-16
Solicitante(s): ATOCHEM NORTH AMERICA, INC.
Inventor(es): TERRY NED MYERS
Clasificacion: C07C-243/000 referente a Hirazidas Fotoeestabilizadoras Con Amina Impedida.