Dispositivo Para Tratamiento De Material En Forma De Cinta En Proceso Intensificado Con Plasma.
La tecnología de plasma se ha convertido en una herramienta cada vez más popular en la industria para procesar materiales. Con el dispositivo para tratamiento de material en forma de cinta en proceso intensificado con plasma, se pueden obtener resultados aún más efectivos.
Este dispositivo es capaz de tratar materiales en forma de cinta, como películas plásticas, papel, textiles y otros materiales similares. El proceso de tratamiento se lleva a cabo en un ambiente de plasma, lo que permite una mayor eficiencia y una mayor calidad de los resultados.
El dispositivo cuenta con un sistema de alimentación de material en forma de cinta, que se introduce en una cámara de plasma. Una vez dentro de la cámara, el material es sometido a un tratamiento intensificado con plasma, que consiste en la generación de un campo eléctrico de alta frecuencia y alta energía.
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El proceso de tratamiento con plasma permite modificar las propiedades físicas y químicas del material, como su resistencia al desgaste, su resistencia al calor, su resistencia a la corrosión y su capacidad de absorción de líquidos. Además, también se pueden obtener resultados de superficie mejorados, como una mayor adhesión y una mayor capacidad de impresión.
En resumen, el dispositivo para tratamiento de material en forma de cinta en proceso intensificado con plasma es una herramienta valiosa para la industria, que permite mejorar la calidad y eficiencia en el procesamiento de materiales en forma de cinta. Con su capacidad de modificar las propiedades físicas y químicas del material, este dispositivo ofrece una solución única y efectiva para la industria.
Algunas patentes que relacionadas son: * ACONDICIONADOR-FERTILIZANTE PARA MODIFICAR Y MEJORAR LA ESTRUCTURA DE SUELOS SALINOS O ALCALINOS.
* VELLO DE HAEMOPHILUS INFLUENZAE TIPO IV.
* MEJORAS EN MECANISMOS DE ACCIONAMIENTO ADECUADOS PARA USO EN DISPOSITIVOS DE ADMINISTRACION DE MEDICAMENTOS, Y RELACIONADAS CON LOS MISMOS.
* DERIVADOS DE CICLOSPORINA 3-ETER Y 3-TIOETER SUSTITUIDOS PARA EL TRATAMIENTO Y PREVENCION DE INFECCION DE HEPATITIS C.
* USO DE C3A Y DERIVADOS DEL MISMO COMO UN BIOFORMADOR PARA ADENOMA COLORRECTAL Y/O CARCINOMA; METODO PARA DETECCION Y SISTEMA DE PRUEBA.
* POLIURETANO ANTIESTATICO.
* METODO Y SISTEMA PARA LA MANUFACTURA Y SUMINISTRO DE UN EXPLOSIVO EN EMULSION.
Descripcion: La invencion se relaciona con un dispositivo para el tratamiento de un material en forma de cinta en un proceso intensificado con plasma. El dispositivo comprende una camara (1) de vacio con medios (2) para mantener una presion reducida constante dentro de la camara, un tambor (3) en rotacion dispuesto en el interior de la camara de vacio y que apoya y transporta el material (4) en forma de cinta, un medio de magnetron que es orientado hacia el material (4) apoyado y transportado por el tambor (3) y un medio para alimentacion de gas para suministrar un gas de proceso o una mezcla de gas de proceso en el intersticio (10) entre el tambor (3) y los medios de magnetron, siendo que se sostiene un plasma en este intersticio (10). El medio de magnetron es provisto con una multiplicidad de electrodos (6) de magnetron independientes que tienen frentes de magnetron rectangulares que estan dispuesto uno junto al otro y paralelos entre si. Cada uno de los electrodos (6) de magnetron es alimentado individualmente con un poder alternante mediante una fuente (7) de poder independiente. El tambor (3) tiene tierra electrica y no esta conectado con una energia de referencia definida o es conectado con una precarga negativa. El dispositivo inventivo es particularmente conveniente para el recubrimiento de material (4) flexible en forma de cinta mediante deposito de fase gaseosa intensificado con plasma, por ejemplo, para recubrir una pelicula de plastica con oxido de silicato para mejorar sus propiedades de barrera. Este dispositivo produce un recubrimiento de una calidad muy constante con gran confiabilidad requiriendo, simultaneamente poco mantenimiento, mismo que puede realizarse de manera sencilla.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Dispositivo Para Tratamiento De Material En Forma De Cinta En Proceso Intensificado Con Plasma. en México
Solicitud: PA/a/2005/003539
Fecha de Presentacion: 2005-04-01
Solicitante(s):
Inventor(es): PIERRE FAYET, BERTRAND JACCOUD, Dapples 13, CH-1006, Laussane, SUIZA
Clasificacion: C23C14/35 (2006-01), C23C14/56 (2006-01), H01J37/32 (2006-01) referente a Dispositivo Para Tratamiento De Material En Forma De Cinta En Proceso Intensificado Con Plasma.