Dispositivo De Admision Para Un Fluido Que Se Alimenta Tangencial A Un Aparato.
Un dispositivo de admisión para un fluido que se alimenta tangencial a un aparato es una pieza fundamental en muchos procesos industriales. Este tipo de dispositivo se utiliza para introducir fluidos en un aparato de manera que la corriente de fluido tenga un movimiento tangencial al interior del mismo.
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La alimentación tangencial del fluido es importante porque permite crear un movimiento de rotación en el interior del aparato, lo que favorece la mezcla y el transporte de los materiales que se procesan en su interior. Además, este tipo de alimentación permite una distribución más uniforme del fluido en el aparato.
El diseño del dispositivo de admisión para un fluido que se alimenta tangencial a un aparato debe ser cuidadoso y estar adaptado a las necesidades específicas del proceso industrial en el que se va a utilizar. Es importante tener en cuenta factores como la viscosidad del fluido, la velocidad de alimentación y la geometría del aparato en el que se va a utilizar.
Existen diferentes tipos de dispositivos de admisión para fluidos tangenciales, desde los más simples hasta los más complejos. Algunos de los más utilizados incluyen boquillas tangenciales, tubos de alimentación tangencial y difusores tangenciales.
En resumen, un dispositivo de admisión para un fluido que se alimenta tangencial a un aparato es una herramienta fundamental en muchos procesos industriales. Su correcto diseño y utilización pueden mejorar significativamente la eficiencia y la calidad de los procesos, lo que se traduce en importantes beneficios económicos para las empresas.
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Descripcion: Con el dispositivo (1) de admision para un fluido (3) que se alimenta tangencialmente a un aparato (2) el fluido entra en un flujo (30) vortiginoso despue de fluir a trave de un componente (10) conductor abocinado en una periferia (20) del aparato. el flujo vortiginoso gira alrededor de un eje adyacente a un eje (210) central del aparato. El eje central coincide con una direccion (200) principal de circulacion del fluido. Una zona (13) de descarga del componente conductor a trave del cual tiene lugar el flujo prefija una direccion (32) de flujo central del fluido que se extiende a lo largo de la periferia y esta inclinada contra la direccion (200) principal mencionada. Una zona (12) central del componente conductor - o una zona (11) de entrada y la zona central - y la zona de descarga se hacen juntas a manera de un difusor. Una region marginal de las zonas hechas a manera de un difusor que se encuentra dentro del aparato y lindante con la periferia se extiende sobre menos de una mitad de la periferia, preferiblemente sobre menos de un tercio de la periferia.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Dispositivo De Admision Para Un Fluido Que Se Alimenta Tangencial A Un Aparato. en México
Solicitud: MX/a/2007/008991
Fecha de Presentacion: 2007-07-26
Solicitante(s): SULZER CHEMTECH AG.*; Sulzer-Allee 48, CH-8404, Winterthur, SUIZA
Inventor(es): PIERRE SCHAEFFER, FELIX MUGGLI, LORENZO GHELFI, Rümikerstrasse 60, CH-8409, Winterthur, SUIZA
Clasificacion: B01D3/32 (2006-01), B01D45/16 (2006-01) referente a Dispositivo De Admision Para Un Fluido Que Se Alimenta Tangencial A Un Aparato.