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Derivados De Hidroxifenil-benzofenona Sustituidos Con Amino.


Los derivados de hidroxifenil-benzofenona sustituidos con amino son una nueva patente que promete revolucionar el mundo de la química y la farmacéutica. Estos compuestos son una combinación única de hidroxifenil-benzofenona, un compuesto ampliamente utilizado en la industria cosmética por sus propiedades fotoprotectoras, y amino, un grupo funcional de gran importancia en la química orgánica.

La patente describe una serie de compuestos que han sido modificados con la adición de un grupo amino en diferentes posiciones de la molécula. Estos derivados presentan una mayor solubilidad en agua y una mayor estabilidad térmica y química que la hidroxifenil-benzofenona original, lo que los hace ideales para su uso en productos cosméticos y farmacéuticos.

Además, se ha demostrado que estos compuestos tienen propiedades antioxidantes y antiinflamatorias, lo que los convierte en un candidato prometedor para el tratamiento de enfermedades inflamatorias crónicas y enfermedades relacionadas con el estrés oxidativo.
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En resumen, los derivados de hidroxifenil-benzofenona sustituidos con amino son una nueva patente que tiene el potencial de revolucionar la industria cosmética y farmacéutica. Con sus propiedades fotoprotectoras, antioxidantes y antiinflamatorias, estos compuestos pueden mejorar la calidad de vida de muchas personas y abrir nuevas posibilidades para el desarrollo de productos innovadores.
Algunas patentes que relacionadas son:

* INMUNOGENO DE INFLUENZA Y VACUNA.
* COMPOSICIONES NEUTRALIZANTES DE MALOS OLORES.
* SISTEMA DE AMARRE DE MUELLE.
* DISPOSITIVO PARA EXTRAER VISCERAS DE AVES PARA CARNICERIA.
* SISTEMA Y METODO QUE PERMITE APLICACIONES WUSB EN MAC DISTRIBUIDO DE UWB.
* TABLETA FARMACeUTICA DE METFORMINA DE LIBERACIoN PROLONGADA.
* DERIVADOS DE AMIDO-ACETONITRILO.



Descripcion: Se describen derivados de hidroxifenil-benzofenona, sustituidos con amino, de la formula (ver formula (1)): en que R1 y R2, independientemente entre si, son C1-C20alquilo; C2-C20alquenilo; C3-C10cicloalquilo; C3-C10cicloalquenilo; o R1 y R2 junto con el atomo de nitrogeno enlazado, forman un anillo heterociclico de 5 o 6 miembros n1 es un numero de 1 a 4; cuando n1 = 1, R3 es un radical heterociclico, saturado o insaturado radical; hidroxi-C1-C5alquilo; ciclohexilo opcionalmente sustituido con uno o ma C1-C5alquilo; fenilo, opcionalmente sustituido con un radical heterociclico, aminocarbonilo o C1-C5alquilocarboxi; cuando n1 es 2, R3 es un radical alquileno-, cicloalquileno, alquenileno o fenileno, el cual esta opcionalmente sustituido por un grupo carbonilo o carboxi; o R3 junto con A, forma un radical bivalente de la formula (ver formula); en que n2 es un numero de 1 a 3; cuando n1 es 3, R3 es un radical de alcanotriilo; cuando n1 es 4, R3 es un radical de alcanotetrailo; A es -O-; o -N(R5)-; y R5 es hidrogeno; C1-C5alquilo; o hidroxi-C1-C5alquilo. Los compuestos son útiles como filtros de la radiacion UV en aplicaciones de proteccion contra la luz solar.

Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Derivados De Hidroxifenil-benzofenona Sustituidos Con Amino. en México

Solicitud: PA/a/2005/006197

Fecha de Presentacion: 2005-06-10

Solicitante(s):

Inventor(es): THOMAS EHLIS, JÜRG HAASE, ELEK BORSOS, STEFAN MÜLLER, Habermarkweg 45, CH-4126, Bettingen, SUIZA

Clasificacion: C07C229/52 (2006-01), C07C237/32 (2006-01), C07C237/34 (2006-01), C07C237/40 (2006-01), C07D277/46 (2006-01), C07D277/66 (2006-01), C07D295/18 (2006-01) referente a Derivados De Hidroxifenil-benzofenona Sustituidos Con Amino.



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