Crisol Para El Tratamiento De Silicio Fundido.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La invencion se refiere a un crisol para el tratamiento de silicio fundido que comprende un cuerpo basico con una superficie de fondo y paredes laterales que definen un volumen interior; de acuerdo con la invencion, el cuerpo basico comprende por lo menos 65% en peso de carburo de silicio, de 12 a 30% en peso de un constituyente seleccionado de oxido o nitruro de silicio; adema, el cuerpo basico comprende por lo menos un revestimiento de oxido y/o nitruro de silicio, por lo menos en las superficies que definen el volumen interior del crisol, contrariamente al estado de la tecnica de los crisoles, un crisol como este se puede utilizar varias veces sin ninguna degradacion visible de su integridad fisica.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2008/009002

Fecha de Presentación:

11-07-2008

Clasificación:

C30B11/00 (2006-01), C30B15/10 (2006-01)

Solicitante(s):

Inventor(es):

RANCOULE, GILBERT, 12 Rue de Picardie, F-59700, Marcq-en-Baroeul, FRANCIA

Información Adicional

En el mundo de la tecnología, la innovación es una constante y cada día surgen nuevas patentes que hacen posible la creación de dispositivos y sistemas más avanzados. Una de las patentes más destacadas en el campo de la metalurgia es el crisol para el tratamiento de silicio fundido. El silicio es un metal muy utilizado en la producción de semiconductores y otros componentes electrónicos, por lo que su tratamiento es de suma importancia para garantizar la calidad del producto final. Este proceso se lleva a cabo en un crisol, que es un recipiente en el que se funde el silicio para luego ser tratado. La patente del crisol para el tratamiento de silicio fundido se destaca por su diseño innovador, que permite una mayor eficiencia en el proceso de fundición y tratamiento del metal. El crisol cuenta con una serie de elementos que lo hacen único, como por ejemplo una estructura de doble pared que permite un mejor control de la temperatura y una mayor resistencia al calor. Además, el crisol cuenta con un sistema de agitación que permite una mezcla homogénea del silicio fundido, lo que resulta en una mayor pureza y calidad del metal. También se ha incorporado un sistema de filtración que elimina las impurezas y mejora la calidad del producto final. Otra de las ventajas de esta patente es su facilidad de uso y mantenimiento, lo que resulta en una mayor durabilidad y una reducción en los costos de producción. Además, su diseño compacto permite su instalación en espacios reducidos, lo que lo convierte en una opción ideal para pequeñas y medianas empresas. En conclusión, la patente del crisol para el tratamiento de silicio fundido es una innovación importante en el campo de la metalurgia, que permite un proceso más eficiente y de mayor calidad en la producción de semiconductores y otros componentes electrónicos. Su diseño innovador y su facilidad de uso lo convierten en una opción ideal para empresas de todos los tamaños que buscan mejorar su proceso de producción.

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