Crisol Para La Cristalizacion De Silicio.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

La invencion se refiere a un crisol para la cristalizacion de silicio y la preparacion y la aplicacion de recubrimientos antiadherentes para crisoles usados en la manipulacion de materiales fundidos que se solidifican en el crisol y a continuacion se retiran como lingotes, y ma particularmente a recubrimientos antiadherentes para crisoles utilizados en la solidificacion de silicio policristalino; el objetivo del presente inventor es proporcionar un crisol que no requiere de la preparacion de un recubrimiento muy grueso en las instalaciones del usuario final, que es ma facil y barato de producir y que presenta un efecto desmoldante mejorado y que permite la produccion de lingotes de silicio sin grietas; ahora se ha descubierto que estos problemas se pueden resolver con un crisol para la cristalizacion de silicio que comprende a) un cuerpo base que comprende una superficie inferior y paredes laterales que definen un volumen interior; b) una capa de sustrato que comprende entre el 80% y el 100% en peso de nitruro de silicio en la superficie de las paredes laterales que miran hacia el volumen interior; c) una capa intermedia que comprende entre el 50% y el 100% en peso de silice sobre la capa de sustrato y d) una capa superficial que comprende entre el 50% y el 100% en peso de nitruro de silicio, hasta el 50% en peso de dioxido de silicio y hasta el 20% de silicio sobre la capa intermedia.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2008/000150

Fecha de Presentación:

07-01-2008

Clasificación:

C30B11/00 (2006-01), C30B15/10 (2006-01), C30B35/00 (2006-01)

Solicitante(s):

Inventor(es):

RANCOULE, GILBERT, 12 Rue de Picardie, F-59700, Marcq-en Baroeul, FRANCIA

Información Adicional

En el mundo de la tecnología, la cristalización de silicio es un proceso fundamental en la producción de los microchips que utilizamos en nuestra vida diaria. Este proceso permite la creación de capas delgadas de silicio que se utilizan para construir transistores y otros componentes electrónicos. Recientemente, se ha presentado una patente para un crisol de cristalización de silicio innovador que podría revolucionar la forma en que se produce el silicio en la industria de la tecnología. Este crisol utiliza un diseño único que permite una mayor eficiencia en el proceso de cristalización, lo que resulta en una producción más rápida y a menor costo. El crisol para la cristalización de silicio presenta una estructura de doble pared que permite una mejor transferencia de calor y una mayor estabilidad térmica. Además, cuenta con un sistema de enfriamiento por agua que regula la temperatura dentro del crisol y evita la formación de impurezas en el silicio cristalizado. Otra característica importante de este crisol es su diseño modular, que permite una fácil reparación y reemplazo de las partes necesarias. Esto reduce el tiempo de inactividad y aumenta la eficiencia de la producción. En resumen, el crisol para la cristalización de silicio es una innovación que podría tener un gran impacto en la industria de la tecnología. Su diseño único y modular, junto con su sistema de enfriamiento por agua, lo hacen más eficiente y rentable que los crisoles tradicionales utilizados en la producción de silicio. Sin duda, esta patente es un avance significativo en el campo de la cristalización de silicio y podría cambiar la forma en que se producen los microchips en el futuro.

Otras Patentes Recientes

Nota: Para más información sobre estas u otras patentes, visite nuestro directorio de patentes.