Composiciones Fotoprotectoras Con Glicol Y Copolimero De Estireno/acrilato.
Las composiciones fotoprotectoras son esenciales para proteger nuestra piel de los rayos UV dañinos del sol. Una nueva patente ha sido registrada para una composición fotoprotectora que contiene glicol y copolímero de estireno/acrilato.
El glicol es un compuesto orgánico que se utiliza ampliamente en la industria cosmética debido a sus propiedades hidratantes y emolientes. El copolímero de estireno/acrilato es un polímero que se utiliza en la fabricación de productos cosméticos debido a sus propiedades de estabilización y mejora de la textura.
La combinación de glicol y copolímero de estireno/acrilato en una composición fotoprotectora ofrece una serie de beneficios para la piel. En primer lugar, el glicol ayuda a hidratar y suavizar la piel, lo que la hace más resistente a los efectos dañinos de los rayos UV.
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Por otro lado, el copolímero de estireno/acrilato ayuda a estabilizar la composición y mejorar su textura, lo que permite una aplicación más uniforme y una mejor cobertura de la piel.
Además, la composición fotoprotectora también puede contener otros ingredientes activos, como filtros solares y antioxidantes, para proporcionar una protección completa contra los efectos dañinos del sol.
En resumen, la patente de la composición fotoprotectora con glicol y copolímero de estireno/acrilato ofrece una solución única y efectiva para proteger nuestra piel del sol, mientras que también hidrata y mejora su textura. Es una innovación importante en la industria cosmética y promete ser un éxito en el mercado.
Algunas patentes que relacionadas son: * UN METODO DE GRABADO AL ACIDO DIFERENCIAL DE LA FRACTURA SUBTERRANEA.
* METODO DE SEPARACION DE MEMBRANA PARA SEPARAR HERVIDOR ELEVADO DURANTE LA PRODUCCION DE 1,3-DIOXOLAN-2-ONENO.
* DERIVADO DE 3,8-DIAMINOTETRAHIDROQUINOLINA.
* INHIBIDOR DE FIBROSIS.
* INHIBIDORES DEL VIRUS DE LA HEPATITIS C.
* NUEVOS MACROLIDOS Y SU USO.
* MACROLIDOS PARA TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES MEDIADAS A TRAVES DE INHIBICION DE PDE.
Descripcion: Una composicion fotoprotectora incluye uno o ma agentes fotoactivos (tal como un compuesto de filtro UV), uno o ma agentes de optimizacion, y un refuerzo de copolimero. Tal composicion proporciona una combinacion sinergistica inesperada del uno o ma agentes de optimizacion y el refuerzo de copolimero para incrementar por lo menos uno de SPF, relacion de UVA/UVB, longitud de onda critica, fotoestabilidad del absorbedor UVA y PFA, y cualquiera de las combinaciones de los mismos, de la composicion.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Composiciones Fotoprotectoras Con Glicol Y Copolimero De Estireno/acrilato. en México
Solicitud: MX/a/2010/008728
Fecha de Presentacion: 2010-08-06
Solicitante(s): PLAYTEX PRODUCTS, LLC; 6 Research Drive, 06484, Shelton, Connecticut, E.U.A.
Inventor(es): LAURA SPAULDING, 7 Lockley Court, 07470, Wayne, New Jersey, E.U.A.
Clasificacion: A61K8/34 (2006-01), A61K8/35 (2006-01), A61K8/37 (2006-01), A61K8/40 (2006-01), A61K8/81 (2006-01), A61Q17/04 (2006-01) referente a Composiciones Fotoprotectoras Con Glicol Y Copolimero De Estireno/acrilato.