Composicion Y Metodo Para Aplicacion Seca De Mascara.
La presente patente se refiere a una composición y método para la aplicación seca de máscara, que permite obtener un resultado profesional en el maquillaje de pestañas.
La composición de la máscara seca incluye una combinación de polvos minerales, ceras, aceites y pigmentos, que se mezclan para formar una mezcla homogénea. La mezcla se aplica sobre las pestañas con un aplicador especial, que permite distribuir uniformemente la máscara sobre las pestañas.
La ventaja de esta composición y método de aplicación seca es que no requiere tiempo de secado, lo que permite ahorrar tiempo en el proceso de maquillaje. Además, la máscara seca no se corre ni mancha, lo que garantiza un maquillaje de larga duración.
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Otra ventaja de esta composición es que no contiene ingredientes dañinos para las pestañas, como el formaldehído o el tolueno, que pueden causar irritación o daño a las pestañas.
En resumen, la composición y método para la aplicación seca de máscara es una innovación en el campo del maquillaje de pestañas, que ofrece una alternativa segura, rápida y de larga duración para lograr un maquillaje profesional en cualquier momento del día.
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Descripcion: Se describe una formulacion de mascara sustancialmente seca, una composicion de mascara y un metodo de aplicacion de la formacion. La formulacion de mascara sustancialmente seca puede ser depositada en la superficie de un sustrato de soporte y aplicarse a las pestañas mediante contacto entre la mascara y el sustrato con las pestañas. Puede usarse opcionalmente una herramienta de aplicacion para ayudar a la aplicacion de la formulacion en las pestañas. La presente invencion permite que se impartan a las pestañas diversos gradientes de color, patrones o diseños deseados.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Composicion Y Metodo Para Aplicacion Seca De Mascara. en México
Solicitud: MX/a/2010/005474
Fecha de Presentacion: 2010-05-18
Solicitante(s): AVON PRODUCTS, INC.*; c/o Anthony M. Santini, 1345 Avenue of the Americas, 10105-0196, New York, New York, E.U.A.
Inventor(es): WILLIAM E. MCNAMARA, PAUL EARNSHAW, DAVID STONEHOUSE, 65 Grand Avenue, 10940, Middletown, New York, E.U.A.
Clasificacion: A45D40/30 (2006-01) referente a Composicion Y Metodo Para Aplicacion Seca De Mascara.