Composicion Y Metodo Para Aplicacion Seca De Mascara.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Se describe una formulacion de mascara sustancialmente seca, una composicion de mascara y un metodo de aplicacion de la formacion. La formulacion de mascara sustancialmente seca puede ser depositada en la superficie de un sustrato de soporte y aplicarse a las pestañas mediante contacto entre la mascara y el sustrato con las pestañas. Puede usarse opcionalmente una herramienta de aplicacion para ayudar a la aplicacion de la formulacion en las pestañas. La presente invencion permite que se impartan a las pestañas diversos gradientes de color, patrones o diseños deseados.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/005474

Fecha de Presentación:

18-05-2010

Clasificación:

A45D40/30 (2006-01)

Solicitante(s):

AVON PRODUCTS, INC.*; c/o Anthony M. Santini, 1345 Avenue of the Americas, 10105-0196, New York, New York, E.U.A.

Inventor(es):

WILLIAM E. MCNAMARA, PAUL EARNSHAW, DAVID STONEHOUSE, 65 Grand Avenue, 10940, Middletown, New York, E.U.A.

Información Adicional

La presente patente se refiere a una composición y método para la aplicación seca de máscara, que permite obtener un resultado profesional en el maquillaje de pestañas. La composición de la máscara seca incluye una combinación de polvos minerales, ceras, aceites y pigmentos, que se mezclan para formar una mezcla homogénea. La mezcla se aplica sobre las pestañas con un aplicador especial, que permite distribuir uniformemente la máscara sobre las pestañas. La ventaja de esta composición y método de aplicación seca es que no requiere tiempo de secado, lo que permite ahorrar tiempo en el proceso de maquillaje. Además, la máscara seca no se corre ni mancha, lo que garantiza un maquillaje de larga duración. Otra ventaja de esta composición es que no contiene ingredientes dañinos para las pestañas, como el formaldehído o el tolueno, que pueden causar irritación o daño a las pestañas. En resumen, la composición y método para la aplicación seca de máscara es una innovación en el campo del maquillaje de pestañas, que ofrece una alternativa segura, rápida y de larga duración para lograr un maquillaje profesional en cualquier momento del día.

Otras Patentes Recientes

Nota: Para más información sobre estas u otras patentes, visite nuestro directorio de patentes.