Aparato Y Metodos Para Controlar La Aplicacion De Una Sustancia En Un Substrato.
En el mundo de la producción industrial, la aplicación de sustancias en un substrato es una tarea común y necesaria para lograr ciertos efectos en los productos finales. Sin embargo, esta tarea puede ser complicada y costosa si no se tiene un control adecuado sobre la cantidad y distribución de la sustancia aplicada. Es por eso que se ha desarrollado una nueva patente que busca resolver este problema de manera eficiente y efectiva.
El aparato y métodos para controlar la aplicación de una sustancia en un substrato, patentado recientemente, es un sistema diseñado para asegurar una aplicación uniforme y precisa de sustancias en cualquier tipo de substrato. Este sistema se compone de una serie de elementos clave que trabajan juntos para lograr una aplicación óptima.
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En primer lugar, el sistema utiliza una boquilla especializada que permite una aplicación uniforme de la sustancia. Esta boquilla se ajusta para permitir un flujo constante y controlado de la sustancia, lo que asegura que se aplique la cantidad adecuada en cada área del substrato.
Además, el sistema cuenta con un sensor de posición que permite la detección precisa de la posición del substrato en todo momento. Esto es esencial para garantizar que la sustancia se aplique en el lugar correcto y en la cantidad adecuada.
Otro aspecto importante de este sistema es su capacidad para ajustar la velocidad de aplicación de la sustancia. Esto significa que la velocidad puede ser aumentada o disminuida según sea necesario, lo que permite una aplicación más precisa y eficiente.
Finalmente, el sistema también cuenta con un controlador que permite a los usuarios monitorear y ajustar el proceso de aplicación en tiempo real. Esto significa que cualquier problema o desviación puede ser detectado y corregido en el acto, lo que garantiza una aplicación uniforme y precisa en todo momento.
En conclusión, el aparato y métodos para controlar la aplicación de una sustancia en un substrato es una patente innovadora que tiene el potencial de transformar la forma en que se aplican sustancias en la producción industrial. Con su capacidad para garantizar una aplicación uniforme y precisa, este sistema puede ayudar a las empresas a reducir costos y mejorar la calidad de sus productos.
Algunas patentes que relacionadas son: * MANIPULACION DE ESFERAS EN UN INYECTOR DE GOTAS.
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Descripcion: Aparato y metodos para controlar la aplicacion de una sustancia en un substrato involucra el uso de un agente de bloqueo y/o activacion que bloquea la sustancia o atrae la sustancia al substrato; el aparato y metodo pueden utilizar tecnologia de inyeccion de tinta para aplicar el agente de bloqueo y/o activacion directamente en el substrato o en una superficie intermedia; la sustancia puede ser una tinta, un material electricamente conductor, un material magnetico, un portador para una sustancia terapeutica, de diagnostico, o marcador diferente a una tinta, o un portador para cualquier otro tipo de sustancia.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Aparato Y Metodos Para Controlar La Aplicacion De Una Sustancia En Un Substrato. en México
Solicitud: MX/a/2010/001992
Fecha de Presentacion: 2010-02-19
Solicitante(s): MOORE WALLACE NORTH AMERICA, INC.; Lakeside Drive 1200 , 60015, Bannockburn, Illinois, E.U.A.
Inventor(es): DE JOSEPH, ANTHONY, B., CYMAN, THEODORE, F., JR., HOOK, KEVIN, J., MOSCATO, ANTHONY, V., HAAN, HENDERIKUS, A., Walnut Creek Dr. 6361, 14051, East Amherst, New York, E.U.A.
Clasificacion: B41C1/10 (2006-01), B41C1/00 (2006-01), B41J2/005 (2006-01), B41M1/06 (2006-01), B41M1/10 (2006-01) referente a Aparato Y Metodos Para Controlar La Aplicacion De Una Sustancia En Un Substrato.