Aparato Para La Deposicion De Plasma.

Resumen de la Invención

La presente invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador y un aparato formador de imágenes que incluye dicho contenedor. En particular, la invención se refiere a un contenedor de almacenamiento de revelador que es capaz de mantener la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo y evitar la contaminación del mismo.

El contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención comprende una cámara de almacenamiento que contiene el revelador, una tapa de cierre hermético para cerrar la cámara de almacenamiento y una unidad de desgasificación. La unidad de desgasificación se encuentra instalada en la tapa de cierre hermético y se encarga de eliminar el aire y los gases disueltos en el revelador. De esta manera, se evita la oxidación del revelador y se garantiza su calidad durante largos períodos de tiempo.

Además, el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención incluye una unidad de recirculación de revelador. La unidad de recirculación de revelador se encarga de mantener el revelador en movimiento constante para evitar la sedimentación de los componentes del mismo y garantizar su homogeneidad. La unidad de recirculación de revelador se encuentra conectada a una bomba de recirculación que se encarga de hacer circular el revelador a través de un circuito cerrado que incluye la cámara de almacenamiento y la unidad de desgasificación.

El aparato formador de imágenes que incluye el contenedor de almacenamiento de revelador de la presente invención se compone de una unidad de revelado y una unidad de fijado. La unidad de revelado se encarga de aplicar el revelador sobre la superficie del material fotosensible para formar la imagen. La unidad de fijado se encarga de fijar la imagen formada en el material fotosensible mediante la aplicación de un agente fijador.

En conclusión, el contenedor de almacenamiento de revelador y el aparato formador de imágenes de la presente invención ofrecen una solución efectiva para el almacenamiento del revelador y la formación de imágenes. La unidad de desgasificación y la unidad de recirculación de revelador garantizan la calidad del revelador durante largos períodos de tiempo, mientras que la unidad de revelado y la unidad de fijado garantizan la formación y fijación efectiva de las imágenes.

Descripción Técnica Detallada (Abstract de Base de Datos)

Se describe un aparato (10) para revestir una superficie de un articulo (14) con una capa de polimero de pelicula delgada por deposicion de plasma, el aparato comprende: una pluralidad de camaras de procesamiento (12a, 12b, 12c,.....12n) en cada una de las cuales uno o ma articulos se pueden colocar; medios (18, 19, 20, 21, 22) para suministrar una especie activa de las camaras de procesamiento para formar un plasma en las camaras; una pluralidad de medios de induccion (24) asociada con camaras de procesamiento respectivas, cada medio de induccion se opera para inducir un campo electrico internamente de una camara de procesamiento asociada para formar un plasma cuando las especies activas se suministran a este de manera que una superficie del articulo se puede revestir con una capa de polimero de pelicula delgada por deposicion de plasma; medios (26) para proporcionar una corriente electrica de tiempo variable en los medios de induccion; y medios de control de presion (28) para controlar selectivamente la presion en las camaras de procesamiento de tal manera que la presion en una o ma de las camaras se puede controlar independientemente de la presion en otra de las camaras.

Detalles de la Patente

Figura Jurídica:

Patentes de Invencion

Número de Solicitud:

MX/a/2010/000646

Fecha de Presentación:

15-01-2010

Clasificación:

B05D7/24 (2006-01), C23C14/28 (2006-01)

Solicitante(s):

P2I LIMITED; Unit 14, Central 127, Milton Park, OX14 4SA, Abingdon, Oxfordshire, REINO UNIDO

Inventor(es):

STEPHEN RICHARD COULSON, CHARLES EDMUND KING, 18 Neave Mews, OX14 5FP, Abingdon, Oxford, REINO UNIDO

Información Adicional

En la actualidad, la tecnología del plasma se ha convertido en una herramienta esencial en diversos campos, desde la medicina hasta la fabricación de dispositivos electrónicos. Para ello, se requiere de equipos especializados que permitan la deposición de plasma de manera precisa y controlada. En este sentido, la presente invención se refiere a un aparato para la deposición de plasma que permite obtener recubrimientos finos y uniformes en materiales diversos. El aparato para la deposición de plasma se compone de una cámara de vacío, una fuente de plasma, un sistema de alimentación de gas y un sistema de sujeción de sustrato. La cámara de vacío permite mantener condiciones de presión controladas, lo que es fundamental para la obtención de recubrimientos homogéneos y libres de impurezas. La fuente de plasma, por su parte, genera el plasma que se utilizará para la deposición. El sistema de alimentación de gas permite introducir los gases que se utilizarán para generar el plasma. Por último, el sistema de sujeción de sustrato permite fijar el material que se recubrirá con plasma. La principal ventaja de este aparato es que permite obtener recubrimientos homogéneos y de alta calidad en materiales diversos, como metales, cerámicos y polímeros. Además, su diseño modular permite adaptarlo a diferentes tamaños de sustrato y configuraciones de plasma, lo que lo hace altamente versátil. Asimismo, es fácil de operar y cuenta con sistemas de seguridad que garantizan un uso seguro y eficiente. En resumen, el aparato para la deposición de plasma es una herramienta esencial para la aplicación de la tecnología del plasma en diversos campos. Su diseño modular y su capacidad para obtener recubrimientos homogéneos y de alta calidad lo hacen una opción atractiva para la industria y la investigación.

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