Aparato De Deposicion De Pelicula.
Un aparato de deposición de película es un dispositivo utilizado en la producción de películas delgadas, que se utilizan en una amplia variedad de aplicaciones, desde la electrónica hasta la fabricación de dispositivos médicos. Este proceso implica depositar una capa muy fina de material sobre una superficie para crear una película uniforme y de alta calidad.
Hay varios tipos de aparatos de deposición de película disponibles, cada uno con diferentes ventajas y desventajas. Uno de los más comunes es el proceso de deposición física de vapor (PVD), que utiliza un proceso de evaporación para depositar una capa delgada de material sobre una superficie. Este proceso es muy preciso y se utiliza a menudo en la producción de circuitos electrónicos y dispositivos de almacenamiento de datos.
Otro tipo común de aparato de deposición de película es el proceso de deposición química de vapor (CVD), que utiliza una reacción química para depositar una capa delgada de material sobre una superficie. Este proceso es muy preciso y se utiliza a menudo en la producción de dispositivos médicos y ópticos, así como en la fabricación de semiconductores.
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En general, los aparatos de deposición de película son muy importantes en la producción de una amplia variedad de productos, y su uso se está expandiendo continuamente a medida que se desarrollan nuevos materiales y tecnologías. Si está interesado en aprender más sobre estos dispositivos y cómo se utilizan en la producción de películas delgadas, debe buscar información adicional en línea o contactar a un fabricante de equipos de deposición de película para obtener más información.
Algunas patentes que relacionadas son: * UN METODO Y UN APARATO PARA DESCODIFICAR UNA SEÑAL DE AUDIO.
* USO DE COMPUESTOS CON BASE EN ACEITE NATURAL DE BAJA FUNCIONALIDAD PARA MEJORAR ESPUMAS.
* EMPAQUE PARA ALIMENTOS PREPARADOS.
* COMPOSICIONES PARA INAHALACION DE DHEAS.
* FORMULACIONES Y DISPOSITIVOS PARA SUMINISTRO DE COMPUESTOS A ARTROPODOS Y MICROORGANISMOS DENTRO DE ARTROPODOS.
* BANCOS DE ANTICUERPOS SINTETICOS, DESIGNADOS RACIONALMENTE Y USOS PARA LOS MISMOS.
* DISPOSITIVO RECORDATORIO PARA PRODUCIR RESPUESTA DE COMPORTAMIENTO EN UN VEHICULO.
Descripcion: Se proporcionan unidades de deposicion de pelicula 54, cada una que incluye dos electrodos, cada unidad de deposicion de pelicula 54 se configura para generar un plasma entre los dos electrodos para cubrir substratos 90 con peliculas DLC, una camara 12 en donde multiples unidades de deposicion de pelicula 54 se disponen y un suministro de energia pulsada 60 incluyendo circuitos electricos 62 que se disponen para las unidades de deposicion de pelicula 54 correspondientes, los circuitos electricos 62 aplican un pulso de voltaje CD entre un electrodo de soporte 51 y un contra electrodo 52 de cada una de las unidades de deposicion de pelicula 54.
Figura Juridica: Patentes de Invencion, PATENTE:Aparato De Deposicion De Pelicula. en México
Solicitud: MX/a/2010/002570
Fecha de Presentacion: 2010-03-05
Solicitante(s): NGK INSULATORS, LTD.; 2-56, Suda-cho, Col. Mizuho-ku, 467-8530, Nagoya-city, Aichi, JAPON
Inventor(es): TAKAO SAITO, TATSUYA TERAZAWA, c/o NGK Insulators, Ltd., 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, 467-8530, Nagoya-city, Aichi, JAPON
Clasificacion: H05H1/46 (2006-01), H05H1/00 (2006-01) referente a Aparato De Deposicion De Pelicula.